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对比文件列表
1983-11-22_US4416277A_发明授权_US4416277A Return electrode monitoring system for use during electrosurgical activation_+++A_B_X_Y_Z+++.docx
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2001-12-05_EP1158919A_发明公开_EP1158919A1 APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_X_Y_Z_d_e_f_i_j+++.docx
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2005-06-29_EP1158919B_发明授权_EP1158919B1 APPARATUS FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_I_J_X_Y_Z_a_b+++.docx
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2005-10-16_ES2240078T_发明专利_ES2240078T3 APARATO PARA EL TRATAMIENTO DE TEJIDOS_+++A_B_C_E_I_J_X_Y_Z_d_l+++.docx
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2007-07-26_US2007173813A_发明申请_US20070173813A1 System and method for tissue sealing_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Y_k_l+++.docx
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2008-02-14_US2008039831A_发明申请_US20080039831A1 System and method for measuring initial tissue impedance_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_X_Y_Z_l_r+++.docx
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2008-04-03_US2008082097A_发明申请_US20080082097A1 Smart return electrode pad_+++A_B_C_X_Y_Z+++.docx
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2008-06-18_JP4102031B_发明专利_JP4102031B2 Apparatus and method for treating tissue_+++A_B_C_D_E_I_J_X_Y_Z_k_l_m_r_s+++.docx
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2010-08-26_US2010217255A_发明申请_US20100217255A1 Fluid-Assisted Electrosurgical Device and Methods of Use Thereof_+++A_b_c_l_x_y_z+++.docx
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2010-09-02_WO2010098784A_发明申请_WO2010098784A1 DEVICES AND METHODS FOR PERCUTANEOUS ENERGY DELIVERY_+++A_B_C_E_F_I_J_L_M_R_X_Y_Z_d_h_k_s+++.docx
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2012-02-23_WO2012023129A_发明申请_WO2012023129A1 ELECTROMAGNETIC ENERGY APPLICATOR FOR PERSONAL AESTHETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_L_M_P_S_X_Y_Z+++.docx
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2012-08-16_KR1020120090007A_发明公开_KR1020120090007A 경피적으로 에너지를 전달하는 장치 및 방법_+++A_B_C_E_F_I_J_M_X_Y_Z_d_k_l+++.docx
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2012-08-23_WO2012110996A_发明申请_WO2012110996A2 A METHOD AND APPARATUS FOR COSMETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_I_J_K_L_M_R_S_X_Y_Z_f_h+++.docx
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2013-05-30_WO2013076714A_发明申请_WO2013076714A1 A SAFE SKIN TREATMENT APPARATUS FOR PERSONAL USE AND METHOD FOR ITS USE_+++A_B_C_I_X_Y_f_k_l_z+++.docx
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2014-12-24_CN104244857A_发明公开_CN104244857A 用于皮肤治疗的方法和系统_+++A_M+++.docx
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2015-03-26_WO2015040049A_发明申请_WO2015040049A1 TREATMENT DEVICE FOR THE SKIN USING RADIO-FREQUENCY ELECTRIC CURRENT_+++A_B_C_E_I_J_M_X_Y_Z_d+++.docx
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DE60021063T2_Description_20260712_1547_+++A_B_C_I_J_L_X_Y_Z_d_e+++.docx
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2010-09-02_WO2010098784A_发明申请_WO2010098784A1 DEVICES AND METHODS FOR PERCUTANEOUS ENERGY DELIVERY_+++A_B_C_E_F_I_J_L_M_R_X_Y_Z_d_h_k_s+++.docx

对比文件名称:2010-09-02_WO2010098784A_发明申请_WO2010098784A1 DEVICES AND METHODS FOR PERCUTANEOUS ENERGY DELIVERY

目标专利名称:1357具有处理设定限定器的使用RF电流的非侵入性皮肤处理装置CN107530544B

本次调用的模型名称:GPT-4(基于文本分析)

### 特征比对表格

第一栏:技术特征描述及公开性判断第二栏:对比文件原文引用(中文翻译)第三栏:公开性论述
技术特征A:RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15) 《直接公开》[0205] “passing current 107 between adjacent electrodes 104 of opposite polarity in the electrode pair” (在电极对中相反极性的相邻电极之间传递电流107)对比文件明确公开了双极RF电极对,电流在电极之间通过组织,从而加热内部区域。该技术特征的作用与目标专利中RF电流穿过内部区域进行加热完全相同,因此直接公开。
技术特征B:阻抗测量电路(35) 《直接公开》[0177] “a small level of current was independently delivered to each of the 5 bipolar pairs to measure the impedance between the each of the electrodes in the pair” (向5个双极对中的每一个独立递送小电流,以测量每对电极之间的阻抗)对比文件公开了使用低电流测量电极对间阻抗的电路,该电路即阻抗测量电路,其功能与目标专利的阻抗测量电路一致,直接公开。
技术特征C:其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗 《直接公开》[0177] 同上,测量每对电极之间的阻抗,其中每对电极包括一个RF处理电极和一个返回电极(双极对)。对比文件中的阻抗测量是在RF处理电极对(双极电极)之间进行的,测量的是电极之间的皮肤组织阻抗,与目标专利测量RF处理电极与返回电极之间的皮肤阻抗完全相同,直接公开。
技术特征D:处理设定限定器(30) 《隐含公开》[0182] “If the initial impedance is low (e.g., 250-700 ohms) the system applies a first set of PID coefficients. If the system measures moderate impedance, the system applies a second set of PID coefficients. If the system measures a high impedance the system applies a third set of coefficients” (如果初始阻抗低,系统应用第一组PID系数;如果中等阻抗,应用第二组;如果高阻抗,应用第三组)对比文件中的控制器根据初始阻抗选择不同的PID系数,这相当于确定与RF处理信号相关的控制参数(即处理设定)。虽然未明确命名“处理设定限定器”,但控制器执行了确定处理设定的功能,本领域技术人员可合理推断该控制器包含处理设定限定器的功能,因此隐含公开。
技术特征E:其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25) 《直接公开》[0177] “the controller directed delivery of RF treatment current to that pair” (控制器指导向该对递送RF治疗电流)对比文件明确公开了控制器(controller),该控制器用于控制RF能量的递送,包括确定处理设定(如是否递送电流、选择PID参数等),因此直接公开。
技术特征F:所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO 《直接公开》[0177] “Once the electrodes were placed in the tissue, a small level of current was independently delivered to each of the 5 bipolar pairs to measure the impedance … When the impedance of a pair was within a predetermined level the controller directed delivery of RF treatment current to that pair” (一旦电极被放置在组织中,向每个双极对递送小电流以测量阻抗……当一对的阻抗在预定水平内时,控制器指导向该对递送RF治疗电流)对比文件明确公开了在递送RF治疗电流之前,先测量电极对之间的初始阻抗,并基于该阻抗决定是否递送治疗电流。这与目标专利中控制器在激活RF发生器前激活阻抗测量电路测量初始皮肤阻抗的顺序和功能一致,直接公开。
技术特征G:其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD) 《未公开》对比文件未公开根据初始皮肤阻抗ZO和电极尺寸两者来确定处理持续时间。对比文件[0182]虽根据初始阻抗选择PID系数,但未涉及电极尺寸,且处理持续时间是医生预设的固定值(如[0204]“time-at-temperature was set to 1, 4, or 7 second(s)”),并非由初始阻抗和电极尺寸自动确定。对比文件没有公开根据初始皮肤阻抗和电极尺寸来确定处理持续时间的技术方案。即使考虑宽松的隐含公开标准,对比文件也未给出任何教导或暗示使得本领域技术人员能够合理推断出该特征,因此未公开。
技术特征H:与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定 《隐含公开》[0177]和[0182]:测量初始阻抗后,控制器根据阻抗值选择PID系数(处理设定的一部分),然后递送RF治疗电流。对比文件公开了在测量初始阻抗后,控制器基于阻抗确定控制参数(PID系数),这相当于激活处理设定限定器确定处理设定。虽然步骤未明确以“连续地”形式描述,但顺序隐含:先测量阻抗,再确定参数,最后施加治疗。RF电气参数(如电压受PID系数影响)也被隐含确定。因此,本领域技术人员可合理推断该特征,故隐含公开。
技术特征I:配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号 《直接公开》[0226] “The treating physician can select the desired target temperature and pulse duration as clinical endpoints” (治疗医师可以选择期望的目标温度和脉冲持续时间作为临床终点)对比文件公开了医生可选择目标温度和脉冲持续时间,系统据此配置RF发生器以提供相应的RF处理信号。这直接公开了根据处理设定(目标温度、持续时间)配置RF发生器,直接公开。
技术特征J:激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD) 《直接公开》[0204] “the time-at-temperature was set to 1, 4, or 7 second(s)” (时间-温度设置为1、4或7秒)对比文件公开了RF能量递送持续预设的时间(处理持续时间),直接公开了激活RF发生器以施加处理信号持续处理持续时间。
技术特征K:其中所述处理持续时间(TD)与所述内部区域(15)中从期望处理结果到不期望的处理结果的过渡相关联 《隐含公开》[0217] “when time at temperature was increased to about 15 seconds, complete tissue ablation was observed with minimal or no sparing of adnexal structures” (当时间-温度增加到约15秒时,观察到完全的组织消融,几乎没有或没有保留附属结构)对比文件公开了处理持续时间(时间-温度)与治疗结果(凝固到消融的过渡)之间的关联,即增加时间会导致从期望的凝固到不期望的消融的过渡。虽然未明确表述“过渡”一词,但本领域技术人员可合理推断处理持续时间与该过渡相关,因此隐含公开。
技术特征L:其中所述不期望的处理结果与所述内部区域(15)内的凝固或消融相关联 《直接公开》[0217] 同上,提及“凝固”和“消融”作为治疗结果。对比文件明确公开了凝固和消融作为不期望的处理结果(例如过度加热导致消融),直接公开。
技术特征M:其中所述RF处理电极(10)在所述RF处理电极(10)的所述接触平面中的最大尺寸小于或等于2mm 《直接公开》[0200] “5 pairs of 30 gauge electrodes” (5对30号电极);30号电极直径约0.3mm对比文件中的电极直径为0.3mm,远小于2mm,直接公开了电极最大尺寸≤2mm(尽管电极是插入式的,但其最大横向尺寸仍满足该限定)。
技术特征N:其中所述处理设定限定器(30)被编程使得所述处理设定限定器(30)根据以下公式确定所述处理设定:J=K.R.TT.PM.(1–exp(‑TD/TT)),其中:J是与期望的处理结果与不期望的处理结果之间的过渡相关联的皮肤损害发作因子 《未公开》对比文件未公开任何类似公式。对比文件没有公开或暗示使用该公式来确定处理设定,也未公开皮肤损害发作因子J的概念,因此未公开。
技术特征O:K是常数,单位为每毫米‑毫焦耳,取决于皮肤组织的热和介电特性 《未公开》对比文件未公开K常数。对比文件未公开该常数,也未公开任何相关计算,因此未公开。
技术特征P:R是所述RF处理电极(10)在所述接触平面内的半径,单位为毫米 《未公开》对比文件虽公开了电极尺寸(如直径0.3mm),但未将其作为公式中的参数R,也未公开根据半径计算处理设定。对比文件没有将电极半径用于确定处理设定,因此未公开。
技术特征Q:TT是皮肤组织的热时间常数,单位为毫秒 《未公开》对比文件未公开热时间常数TT。对比文件未公开该参数,因此未公开。
技术特征R:PM是与所述RF处理信号相关联RF功率,单位为瓦特,等于VM^2/ZO,其中VM是所述RF处理信号的电压 《直接公开》[0183] “power P deposited in the tissue is equal to the square of the voltage V divided by the impedance R as shown by the following equation” (沉积在组织中的功率P等于电压V的平方除以阻抗R)对比文件公开了RF功率与电压平方除以阻抗的关系,其中阻抗可对应于初始皮肤阻抗ZO(对比文件测量初始阻抗),因此直接公开了PM=VM^2/ZO。
技术特征S:TD是所述处理持续时间,单位为毫秒 《隐含公开》[0204] “time-at-temperature was adjusted from 1.5 to 25 seconds” (时间-温度从1.5秒调整到25秒)对比文件公开了处理持续时间,虽然单位通常为秒,但本领域技术人员可轻易转换为毫秒,因此隐含公开。
技术特征T:其中K等于0.38±0.03mm^-1 mJ^-1 《未公开》对比文件未公开该数值。对比文件未公开,因此未公开。
技术特征U:其中TT等于40.4±4.8毫秒 《未公开》对比文件未公开该数值。对比文件未公开,因此未公开。
技术特征V:其中所述皮肤损害发作因子(J)是以下中的一个或多个:J=1±0.3,当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与非消融性凝固损害的发作相关联时 《未公开》对比文件未公开J值及其与凝固损害的关联。对比文件未公开,因此未公开。
技术特征W:或者J=1.7±0.5,当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与消融性损害的发作相关联时 《未公开》对比文件未公开J值及其与消融损害的关联。对比文件未公开,因此未公开。
技术特征X:其中与所述RF处理信号相关联的所述RF电气参数是以下一个或多个:IM,是所述RF处理信号的电流,单位为安培 《直接公开》[0179] 描述PID控制电压,隐含电流测量;[0183] 公式涉及电流。对比文件公开了RF处理信号的电流参数(例如通过PID控制电压,电流可计算得知),直接公开了IM作为RF电气参数。
技术特征Y:VM,是所述RF处理信号的电压,单位为伏特 《直接公开》[0179] “control voltage (V)” (控制电压V);[0183] 电压V。对比文件明确公开了RF处理信号的电压参数,并作为控制变量,直接公开。
技术特征Z:PM,是与所述RF处理信号相关联的功率,单位为瓦特 《直接公开》[0183] “power P deposited in the tissue” (沉积在组织中的功率P)对比文件明确公开了RF功率参数,直接公开。

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权利要求与技术特征

A RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15)
B 阻抗测量电路(35)
C 其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗
D 处理设定限定器(30)
E 其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)
F 所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO
G 其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)
H 与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定
I 配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号
J 激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD)
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