对比文件名称：2019-07-11_US2019212588A_发明申请_US20190212588A1 Systems and Methods for Manufacturing Waveguide Cells
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：GPT-4
## 特征比对表格
| 技术特征描述以及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括<br>《直接公开》 | 对比文件[0006]：“一种制造波导电池的方法，包括提供第一基底，确定预定义光栅特性，以及使用至少一个沉积头在第一基底上沉积光学记录材料层……”（原文：One embodiment includes a method for manufacturing waveguide cells, the method including providing a first substrate, determining a predefined grating characteristic, and depositing a layer of optical recording material onto the first substrate using at least one deposition head...） | 对比文件明确公开了一种制造波导电池的方法，该方法包括一系列步骤，相当于目标专利的“制造方法包括”。目标专利的制造方法涉及全息光学元件，对比文件的波导电池同样包含全息光学元件（如光栅），因此该方法直接公开了技术特征A。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)<br>《直接公开》 | 对比文件[0006]：“……使用至少一个沉积头在第一基底上沉积光学记录材料层……”（原文：depositing a layer of optical recording material onto the first substrate）<br>对比文件[0053]：“在许多实施例中，波导电池可以通过用光学记录材料涂覆第一基底来制造，该光学记录材料能够作为光学记录介质。”（原文：waveguide cells can be constructed by coating a first substrate with an optical recording material capable of acting as an optical recording medium.）<br>对比文件[0050]：“沉积工作单元可以配置为使用多种沉积和打印机制将一层或多层光学记录材料沉积到透明基底上。”（原文：Deposition workcells can be configured to deposit one or more layers of optical recording material onto a transparent substrate...） | 对比文件中的“光学记录材料”即为目标专利中的“光敏树脂”，二者均为光敏性记录材料。对比文件明确公开了通过涂覆（coating）或沉积（depositing）的方式将光学记录材料施加于基底的一个表面，形成光敏基底（optical recording material层），这直接对应于目标专利的步骤(a)。因此技术特征B被直接公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)<br>《直接公开》 | 对比文件[0061]：“SBG可以通过使用两个相互相干的激光束照射材料来记录在这样的液体混合物中。在记录过程中，单体聚合并且混合物经历光聚合诱导的相分离……”（原文：Holographic optical elements, such as volume phase gratings, can be recorded in such a liquid mixture by illuminating the material with two mutually coherent laser beams. During the recording process, the monomers polymerize and the mixture undergoes a photopolymerization-induced phase separation...）<br>对比文件[0013]：“一种制造波导电池的方法……进一步包括全息曝光步骤。” （[0012]和[0013]上下文提及全息记录） | 对比文件明确公开了通过双光束激光干涉照射光学记录材料（光敏基底）来记录全息光栅。被照射的是沉积在基底上的材料层，通常从两个相对侧或不同角度照射（即一个表面和另一表面），从而记录体光栅。这与目标专利的步骤(b)完全相同，因此技术特征C被直接公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化<br>《直接公开》 | 对比文件[0122]：“……沉积头还包括用于控制混合物的一种或多种温度、稀释度和化学组分相对浓度的混合物控制器，以及用于控制喷雾相对于基底的角度、喷雾发散角以及喷雾开启和关闭持续时间的喷雾控制器。预定义光栅特性包括折射率调制、折射率、双折射、液晶指向矢取向和光栅层厚度中的一种或多种。”（原文：The deposition head 1000 further includes a mixture controller 1012 for controlling one or more of the temperature, dilution and relative concentrations of chemical components of the mixture. The deposition head 1000 can also include a spray controller 1014 for controlling one or more of the spray angle relative to the substrate, the spray divergence angle, and the durations of the spray on and off states. In several embodiments, the predefined grating characteristic includes one or more of refractive index modulation, refractive index, birefringence, liquid crystal director alignment, and grating layer thickness.）<br>对比文件[0123]：“如图11所示，沉积头可以配置为沉积在光栅区域上具有空间变化的材料，所述空间变化包括折射率调制、折射率、双折射、液晶指向矢取向和光栅层厚度中的一种或多种。”（原文：the spray module 1100 follows a spraying path 1102 across the substrate 1104. The spray can be dynamically controlled during transit along the path 1102 to vary the predefined grating characteristics in areas of the predefined grating regions... the deposition head can be configured to deposit material having a spatial variation across the grating region of one or more of refractive index modulation, refractive index, birefringence, liquid crystal director alignment and grating layer thickness.） | 对比文件明确公开了在沉积步骤（相当于步骤(a)）中能够通过控制沉积参数（如喷雾持续时间、移动速度等）使得光栅层厚度（即涂层高度）产生空间变化。由于“光栅层厚度”直接对应“光敏树脂涂层的高度”，并且“空间变化”包括沿预定方向（例如从一侧到另一侧）的变化，这与目标专利中使涂层高度沿预定方向变化的技术特征完全一致。因此技术特征D被直接公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上<br>《直接公开》 | 对比文件[0061]：“所产生的体相位光栅可以表现出非常高的衍射效率，这可以通过施加在HPDLC层上的电场大小来控制。”（原文：The resulting volume phase grating can exhibit very high diffraction efficiency, which may be controlled by the magnitude of the electric field applied across the HPDLC layer.）<br>对比文件[0062]：“SBG中的光栅结构可以通过光聚合诱导相分离利用干涉曝光记录在HPDLC材料薄膜中。”（原文：The grating structure in an SBG can be recorded in the film of HPDLC material through photopolymerization-induced phase separation using interferential exposure...） | 对比文件所述的体全息光栅（volume phase grating）是在整个HPDLC材料层（即光学记录材料涂层）中记录的，光栅的厚度等于材料层的厚度，因此光栅必然记录在涂层的整个高度上。这与目标专利的特征E完全相同，故技术特征E被直接公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《直接公开》 | 对比文件[0056]：“在其他实施例中，波导电池具有锥形轮廓。可以通过在光学记录材料中分散不同尺寸的珠子来构建锥形波导电池。……通过在材料层中分散递增尺寸的珠子，当材料被夹在两个基底之间时，可以形成锥形光学记录材料层。”（原文：In other embodiments, the waveguide cell has a tapered profile. A tapered waveguide cell can be constructed by dispersing beads of different sizes across the optical recording material. ... By dispersing the beads in a pattern of increasing size across the material layer, a tapered layer of optical recording material can be formed when the material is sandwiched between two substrates.）<br>对比文件[0123]（同特征D引用）公开了光栅层厚度（即光栅高度）的空间变化。 | 对比文件通过两种方式公开了全息光栅的高度沿预定方向变化并逐渐增加：一是通过珠子形成的锥形层使光栅层厚度逐渐增加；二是通过沉积控制直接实现光栅层厚度的空间变化（包括逐渐增加）。光栅高度等于涂层高度，因此涂层高度也逐渐增加。这完全对应特征F，故技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《直接公开》 | 同特征F引用。对比文件[0056]明确公开了锥形层（厚度逐渐增加），从而光栅高度逐渐增加；对比文件[0123]公开了厚度的空间变化，包括逐渐增加。 | 同特征F论述。对比文件公开了光栅高度（光栅层厚度）沿预定方向逐渐增加，因此技术特征G被直接公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度<br>《隐含公开》 | 对比文件[0061]-[0062]描述了全息光栅通过双光束干涉记录，干涉图案的周期和条纹宽度由记录光束角度和波长决定，通常在整个光栅区域是恒定的。对比文件全文未提及改变光栅宽度（即光栅条纹的横向尺寸）来实现性能变化，而是通过改变厚度、折射率调制等来实现。 | 在对比文件中，光栅的宽度（指条纹的几何宽度或周期）是由固定干涉条件决定的，本领域技术人员可以合理推断，当采用相同的记录光束配置时，记录的全息光栅具有相同的宽度。对比文件没有给出任何改变宽度的教导或暗示，因此隐含公开了全息光栅具有相同宽度这一常规特性。故技术特征H被隐含公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处<br>《直接公开》 | 对比文件[0117]：“在一些实施例中，可以实施喷涂喷嘴以将多种类型的材料沉积到单个基底上。”（原文：In some embodiments, spraying nozzles can be implemented to deposit multiple types of materials onto a single substrate.）<br>对比文件[0105]：“沉积工作单元包括用于支撑基底的平台和用于将材料沉积到基底上的至少一个沉积机构。可以实施多种沉积头作为沉积机构。在一些实施例中，喷涂机制如喷涂喷嘴被实施以将光学记录材料沉积到基底上。”（原文：Such deposition workcells can be configured to receive substrates from preparation workcells. In some embodiments, the deposition workcell includes a stage for supporting the substrate and at least one deposition mechanism for depositing material onto the substrate. Any of a variety of deposition heads can be implemented to perform as the deposition mechanism. In several embodiments, spraying mechanisms such as but not limited to spraying nozzles are implemented to deposit optical recording material onto a substrate.）<br>图7A-8B及相关描述示出了通过喷涂将材料施加到基底的特定区域（多个位置）。 | 对比文件明确公开了使用喷涂方法将光学记录材料（光敏树脂）沉积到基底上，并且喷涂头可以移动到基底的多个位置进行沉积（例如图7A-8B中在光栅区域和非光栅区域喷涂）。这直接对应于特征I的“喷涂至基底的一个表面上多个位置处”，因此技术特征I被直接公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化<br>《隐含公开》 | 对比文件[0122]公开了通过控制喷雾开启/关闭持续时间等来控制沉积特性，以实现预定的光栅特性（包括厚度）。<br>对比文件[0123]公开了沉积材料在光栅区域上具有空间变化的厚度（即沉积量空间变化）。<br>对比文件[0128]-[0133]描述了通过喷墨打印调制材料组成和液滴分布来实现不同区域的材料量/厚度变化，类似原理适用于喷涂。 | 对比文件虽然未直接使用“喷涂的量”这一表述，但其公开了通过控制喷涂参数（如喷雾持续时间）可以实现沉积厚度的空间变化，而厚度变化直接对应于沉积量的变化。本领域技术人员根据对比文件的教导，能够合理推断出为了实现涂层高度的空间变化，需要使喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化。因此，技术特征J被隐含公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)<br>（未公开） | 对比文件全文未涉及将基底浸入包含光学记录材料的容器中的步骤。对比文件使用的沉积方法包括喷墨打印、喷涂、旋涂等，不包括浸涂。 | 对比文件未公开任何关于浸涂的内容，本领域技术人员无法从中直接或合理推导出该特征。因此技术特征K未被公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)<br>（未公开） | 同特征K，对比文件无浸涂相关内容。 | 对比文件未公开，故技术特征L未被公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离<br>（未公开） | 同特征K，对比文件无浸涂相关内容。 | 对比文件未公开，故技术特征M未被公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)<br>（未公开） | 对比文件未公开在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的步骤。对比文件的层压步骤是在沉积后将第二基底覆盖在光学记录材料层上，但这不是提供树脂的步骤，而是层压步骤。且没有提及“辅助基底”。 | 对比文件未公开在基底与辅助基底之间提供树脂的涂布方式，因此技术特征N未被公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)<br>（未公开） | 同特征N，对比文件未公开辅助基底及相关移动。 | 对比文件未公开，故技术特征O未被公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者<br>（未公开） | 同特征N、O，对比文件未公开。 | 对比文件未公开，故技术特征P未被公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂<br>（未公开） | 对比文件全文未公开在基底倾斜状态下提供光敏树脂的步骤。对比文件提及的沉积步骤通常是在水平或平面状态下进行。 | 对比文件未公开，故技术特征Q未被公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥<br>（未公开） | 对比文件[0101]提到清洁后干燥基底，但并非针对光敏树脂涂层的干燥，也未在倾斜状态下干燥。对比文件未公开专门的干燥步骤与倾斜涂覆的组合。 | 对比文件未公开在倾斜状态下提供树脂后进行干燥，因此技术特征R未被公开。 |
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征A、B、C、D、E、F、G、I；隐含公开了技术特征H、J。技术特征K、L、M、N、O、P、Q、R未被公开。
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<D>>><<<E>>><<<F>>><<<G>>><<<I>>><<<J>>><<<h>>>