对比文件名称：KR1020160067712A 보호 필름 및 그를 포함한 디스플레이 모듈과 그 제조 방법
目标专利名称：1607光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法CN111247657B
本次调用的模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 第一栏：技术特征描述及公开性判断结果 | 第二栏：对比文件原文引用（中文翻译） | 第三栏：公开性论述 |
| 技术特征A：包括基础层，所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层。**未公开** | [0038] “所述基底层(110)设置在所述粘合层(120)和所述抗静电层(130)之间。” [0039] “所述粘合层(120)设置在所述基底层(110)的一面上。” [0042] “所述抗静电层(130)设置在所述基底层(110)的另一面上，暴露于外部。” 译文根据韩文原文自行翻译，下同。 | 对比文件仅公开了在基底层一个表面上设置抗静电层，另一表面设置的是粘合层，并未公开在基础膜的两个表面上均设置抗静电层。本领域技术人员无法从对比文件直接或合理推断出基础膜两个表面都设有抗静电层的结构，因此技术特征A未被公开。 |
| 技术特征B：保护层，所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层。**未公开** | [0037] “保护膜(100)包括基底层(110)、粘合层(120)、抗静电层(130)和离型层(140)。” [0046] “离型层(140)设置在粘合层(120)的一面上，即基底层(110)附着的相反面。” | 对比文件的保护膜结构为单层抗静电层、基底层、粘合层、离型层的四层叠层，并未公开由一个独立的保护膜及其两侧的抗静电层再加上离型层所构成的保护层。离型层直接设置在粘合层上而非抗静电层上，且无第三、第四抗静电层的对应结构，因此技术特征B未被公开。 |
| 技术特征C：其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结，使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对。**未公开** | [0037]-[0046] 对比文件保护膜各层顺序为：离型层/粘合层/基底层/抗静电层，无两个分离的层通过粘合剂层粘结的结构。 | 对比文件为一整体保护膜，不存在基础层和保护层两个独立单元通过粘合剂层粘结的设置，也不存在第二抗静电层与离型层相对布置的关系，因此技术特征C未被公开。 |
| 技术特征D：所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于10⁹ Ω/sq且小于或等于5×10¹² Ω/sq。**未公开** | [0012] “为了最小化从保护膜去除离型层过程中因摩擦力产生的静电，所述粘合层可包含防静电剂，使其表面电阻为10¹¹ Ω/sq以下，剥离静电为1 kV以下。” [0041] “粘合层的表面电阻优选为10¹¹ Ω/sq以下。” | 对比文件仅公开了粘合层表面电阻≤10¹¹ Ω/sq，未给出下限值。目标专利要求表面电阻在10⁹ Ω/sq至5×10¹² Ω/sq之间，下限10⁹ Ω/sq未被对比文件以任何方式提及，本领域技术人员无法从＜10¹¹ Ω/sq这一上界限定中直接或合理推断出表面电阻必须≥10⁹ Ω/sq，因此技术特征D未被公开。 |
| 技术特征E：所述粘合剂层在100kHz下的相对介电常数为3.5或更大；并且所述粘合剂层对于玻璃的润湿时间为1秒至6秒。**未公开** | 对比文件全文未提及粘合层的相对介电常数及其测试频率、数值。关于润湿性，[0066]提到“降低表面张力以提高润湿性”，但未给出具体润湿时间数值。 | 对比文件完全没有涉及粘合剂层的相对介电常数，也没有给出润湿时间的具体范围，本领域技术人员无法从对比文件得到有关介电常数≥3.5或润湿时间1~6秒的任何信息，因此技术特征E未被公开。 |
| 技术特征F：其中所述粘合剂层的厚度大于或等于10μm且小于或等于200μm。**未公开** | 对比文件未明确记载粘合层的厚度数值或范围。 | 对比文件所有段落均未提及粘合层厚度的具体数值或优选范围，本领域技术人员不能从对比文件中直接或必然得出厚度在10~200μm之间的技术方案，因此技术特征F未被公开。 |
| 技术特征G：其中所述粘合剂层的金属离子含量为50ppm或更小。**未公开** | [0063] “所述氟系导电性官能团可由氟系离子液体型导电性官能团构成……可由锂等金属离子结合的氟系金属盐（例如LiBF₄）构成。” | 对比文件明确教导粘合层中包含金属离子（锂等）作为防静电剂的一部分，未对金属离子含量作任何限制，更未提及50ppm或更小的含量要求。本领域技术人员不会从对比文件推导出金属离子含量应被限制在50ppm以下，因此技术特征G未被公开。 |
| 技术特征H：其中所述粘合剂层为非有机硅系粘合剂层。**《直接公开》** | [0040] “作为粘合层(120)的材料，可以使用橡胶类高分子、硅酮类高分子及丙烯酸类高分子。” | 对比文件明确列举了丙烯酸类高分子作为粘合层的可选材料，丙烯酸类属于非有机硅系。目标专利要求粘合剂层为非有机硅系，对比文件直接给出该具体选项，本领域技术人员能够毫无疑义地确定粘合剂层可以采用非有机硅系（如丙烯酸类）材料，因此技术特征H被对比文件直接公开。 |
| 技术特征I：其中在180°的剥离角和0.3m/分钟的剥离速率下测量的所述粘合剂层对于玻璃的剥离强度大于或等于0.5gf/英寸且小于或等于15gf/英寸。**《直接公开》** | [0014] “为了便于粘合层的附着和去除，所述粘合层的粘合力为3 gf/25mm至9 gf/25mm范围。” [0070] “粘合力根据JIS Z0237方法测量。” | 对比文件公开的剥离强度范围3~9 gf/25mm（约3~9 gf/英寸）完全落在目标专利要求的0.5~15 gf/英寸区间内。JIS Z0237典型测试条件包括180°剥离角和300mm/min（即0.3m/min）速率，且上下文明确针对玻璃（cover plate）进行测量，与目标专利测试条件实质相同。因此技术特征I被对比文件直接公开。 |
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