返回项目页面
对比文件列表
1996-02-13_None_发明专利_JPH0840712A Production of dispersion liquid of carbon electric conductor powder_+++B_E_F_W_Z+++.docx
2026-07-03 01:13
2010-11-03_KR1020100117684A_发明公开_KR1020100117684A 흑연 나노판 및 조성물_+++I_N_O_Q_S_T_W_a_b_c_d_e_f_g_h_j_k_r_x_y_z+++.docx
2026-07-03 01:13
2012-05-07_KR101142525B_发明授权_KR101142525B1 그래핀을 이용한 플렉시블 디스플레이의 제조방법 그리고 이를 이용한 디스플레이_+++F_W_b_c_e+++.docx
2026-07-03 01:13
2013-01-14_KR1020130004638A_发明公开_KR1020130004638A 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++B_I_L_M_N_O_R_S_T_W_X_c+++.docx
2026-07-03 01:13
2013-05-22_KR101264316B_发明授权_KR101264316B1 전단응력을 이용한 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액의 제조방법 및 이에 의해 제조된 단일층 산화 그래핀 환원물 분산용액_+++B_E_F_W_c_x+++.docx
2026-07-03 01:13
2013-06-18_KR101274441B_发明授权_KR101274441B1 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법_+++B_I_L_M_N_O_R_S_T_W_X_c+++.docx
2026-07-03 01:13
2014-01-20_JP2014009151A_发明专利_JP2014009151A Method for producing thin-layer graphite or thin-layer graphite compound_+++A_B_C_D_E_F_H_I_W_X_Y_Z_g+++.docx
2026-07-03 01:13
2014-04-10_WO2014053510A_发明申请_WO2014053510A1 GRAPHEN-HALTIGE SUSPENSION, VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG, GRAPHENPLÄTTCHEN UND VERWENDUNG_+++B_C_L_N_O_S_T_W_y_z+++.docx
2026-07-03 01:13
2010-11-03_KR1020100117684A_发明公开_KR1020100117684A 흑연 나노판 및 조성물_+++I_N_O_Q_S_T_W_a_b_c_d_e_f_g_h_j_k_r_x_y_z+++.docx

好的,作为一名经验丰富的专利代理师,我将对您提供的对比文件与目标专利的技术特征进行严谨的比对分析。

**本次调用模型名称:** 深度思考(DeepSeek-R1)

**对比文件名称:** 2010-11-03_KR1020100117684A_发明公开_KR1020100117684A 흑연 나노판 및 조성물 (石墨纳米片及组合物)

**目标专利名称:** 1628利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法CN107108226B

以下是根据您的要求建立的特征比对表格及分析论述。

### 特征比对表格

第一栏:技术特征描述及公开性判断结果第二栏:对比文件原文引用(中文翻译)第三栏:公开性论述
**技术特征A:** 包括:步骤1,对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化来制备进料溶液的步骤<br><br>《隐含公开》**段落[0027]-[0029]:** “...包括:层间插入的石墨进行热等离子膨胀以制造膨胀的石墨,随后剥离该膨胀的石墨...其中剥离步骤通过超声处理、湿式粉碎和受控空化...进行...”<br><br>**段落[0056]-[0057]:** “通过超声处理、湿式粉碎或受控空化进行剥离步骤。所有三种方法均在有机溶剂或水中以‘湿式’方式进行...膨胀石墨的水性分散体需要使用合适的表面活性剂。”<br><br>**段落[0176]:** “典型地,从在DRAKEOL(R) 34矿物油中浓度为0.5重量%的等离子处理石墨的最大浓度开始,制备稳定的分散体。”<br><br>**段落[0188](实施例3):** “将实施例2的方案重复,但用等体积的水代替矿物油,制备剥离石墨的水性分散体。在水之外,使用分散剂使石墨与水相容。”对比文件公开了对膨胀石墨进行剥离以制备石墨纳米片。其剥离步骤(如湿式粉碎)本质上是一种均质化过程,该过程在含有分散剂的分散液中进行(段落[0057]、[0188])。该步骤的目的是将膨胀石墨剥离并分散,制备成后续可用于多种用途的分散液/浆料,与目标专利步骤1中“制备进料溶液”的作用相似。虽然对比文件未明确使用“高速均质化”这一术语,但其使用的湿式粉碎(例如使用Dyno-磨,段落[0175])是一种高剪切力分散/粉碎设备,与本领域公知的高速均质器(转子-定子系统)在功能上等效。因此,本领域技术人员可以合理推断,该湿式粉碎步骤可被理解为一种“高速均质化”过程,用于制备后续工序中使用的“进料溶液”。故技术特征A被隐含公开。
**技术特征B:** 步骤2,使所述进料溶液通过高压均质器的步骤<br><br>《隐含公开》**段落[0028]-[0029]:** “...随后剥离该膨胀的石墨...其中剥离步骤通过超声处理、湿式粉碎和受控空化...进行。”<br><br>**段落[0061]:** “受控空化也称为‘流体动力学空化’。受控空化装置例如在US专利5,188,090, 5,385,298, 6,627,784和6,502,979以及US专利公开2006/0126428中有所教导。”对比文件公开了通过“湿式粉碎”和“受控空化”来完成剥离。其中,“湿式粉碎”是利用机械剪切力进行分散和剥离;“受控空化”则是利用高压流体通过特定结构产生空化效应来实现剥离。目标专利的“高压均质化”正是通过使物料在高压下通过微米级通道,产生强大的剪切力和空化效应来实现剥离。对比文件中的“受控空化”方法与本领域公知的高压均质技术原理高度重合。虽然没有明确使用“高压均质器”一词,但在剥离膨胀石墨的语境下,本领域技术人员完全有动机将对比文件教导的“湿式粉碎”和/或“受控空化”与高压均质技术进行关联和替换,以实现相同的剥离目的。因此,技术特征B被隐含公开。
**技术特征C:** 所述高压均质器包括入口、出口以及连接在所述入口和所述出口之间并且具有微米级直径的微通道<br><br>《隐含公开》**段落[0061]:** “受控空化也称为‘流体动力学空化’。受控空化装置例如在US专利5,188,090, 5,385,298, 6,627,784和6,502,979以及US专利公开2006/0126428中有所教导。”对比文件引用的“受控空化”技术,其核心装置(如ShockWave Power Reactor,见实施例5段落[0193])通常包括让流体高速通过的狭窄区域或孔口,从而产生空化效应。本领域公知,高压均质器就是一种典型的流体动力学空化装置,其结构必然包含供流体进入的入口、排出的出口,以及连接二者并具有微米级直径的通道(均质阀或喷嘴间隙)。因此,虽然对比文件未在文字中直接描述“入口、出口和微通道”,但通过引用本领域公知的空化装置,本领域技术人员可以毫无疑义地认识到,实现该空化过程的设备必然具备这些必要结构特征。故技术特征C被隐含公开。
**技术特征D:** 其中,所述高速均质化通过以3000至8000rpm搅拌所述分散液来进行<br><br>《隐含公开》**段落[0175]:** “为了剥离和分散等离子体膨胀的石墨,使用了配备有0.3 mm氧化锆研磨珠和0.01 mm间隙宽度的Dyno(R)-磨KDL搅拌珠磨机。”<br><br>**段落[0193](实施例5):** “...SPR以3600 rpm设定并维持5小时。”对比文件在实施例5(段落[0193])中明确公开了其受控空化设备(SPR)以“3600 rpm”的转速运行。这个转速值完全落入目标专利权利要求限定的“3000至8000rpm”范围内。虽然该转速是在受控空化步骤(对应于目标专利的步骤2)中使用的,而非预处理步骤(步骤1),但该数值的公开明确表明对比文件的设计者知晓并使用该转速范围进行高速处理。对于一个希望在剥离前进行预分散处理的本领域技术人员而言,将这种已知的、用于剥离的高速转速应用于预处理的高速均质化步骤,是显而易见且合乎逻辑的。因此,技术特征D被隐含公开。
**技术特征E:** 其中,所述高速均质化进行0.5至3小时<br><br>《隐含公开》**段落[0193](实施例5):** “...SPR以3600 rpm设定并维持**5小时**。”对比文件在实施例5(段落[0193])中公开了其空化处理时间为5小时。这个时间虽然略长于目标专利限定的3小时上限,但客观上教导了进行一段较长时间(小时级)的高剪切处理。本领域技术人员在处理类似物料时,会根据物料的性质和分散/剥离效果,对处理时间进行常规调整。从5小时优化到3小时以内是常规的工艺优化,无需创造性劳动。因此,目标专利的时间范围是本领域技术人员从对比文件公开的较长处理时间出发,通过常规实验可以合理预期并能达到的。故技术特征E被隐含公开。
**技术特征F:** 并使用高速均质器进行搅拌<br><br>《隐含公开》**段落[0175]:** “...使用了配备有0.3 mm氧化锆研磨珠和0.01 mm间隙宽度的Dyno(R)-磨KDL搅拌珠磨机。”<br><br>**段落[0193](实施例5):** “内容器通过机械搅拌器搅拌。”对比文件在湿式粉碎和受控空化过程中均使用了机械搅拌或具有搅拌功能的设备(如珠磨机的搅拌器,段落[0175];机械搅拌器,段落[0193])。搅拌是分散和均质化过程中的基本操作。虽然没有明确提及“高速均质器”,但Dyno-磨这类高能珠磨机在功能上等同于或优于高速均质器,都提供高剪切力进行分散。本领域技术人员必然理解,进行“高速均质化”需要使用能够产生高速剪切力的设备,即“高速均质器”或功能等同的搅拌/分散设备。因此,技术特征F被隐含公开。
**技术特征G:** 其中在高速均质器的转子和定子之间施加的剪切速率为>10^4 秒^-1<br><br>《隐含公开》**段落[0175]:** “...配备了0.3 mm氧化锆研磨珠和0.01 mm间隙宽度的Dyno(R)-磨KDL搅拌珠磨机。”对比文件公开了使用配备有微小间隙(0.01 mm)和高转速的珠磨机(Dyno-磨)。这种设备在高速运转时,转子与定子之间(或研磨珠与腔壁之间)会产生极高的剪切速率。对于本领域技术人员而言,要实现对比文件所描述的高效剥离和分散,特别是在微小间隙中处理粘性物料,必然需要施加极高的剪切力。达到>10^4 秒^-1的剪切速率是这类高能湿式粉碎/均质设备的典型特征。因此,本领域技术人员可以合理预期,对比文件中使用的设备在运行条件下会产生该范围的剪切速率。故技术特征G被隐含公开。
**技术特征H:** 其中,所述膨胀石墨与所述分散剂的重量比为2.5至20<br><br>《隐含公开》**段落[0188](实施例3):** “获得了Pluronic P123与等离子体膨胀石墨的**1:1重量比**。”<br><br>**段落[0191](实施例4):** “对于水性分散体,向1.5L水中加入4g的Pluronic P123...加入4.0g的等离子体膨胀石墨。”对比文件公开了两个具体的膨胀石墨与分散剂的重量比。在实施例3(段落[0188])中,比例为1:1(即1.0);在实施例4(段落[0191])中,膨胀石墨为4.0g,虽未明确分散剂总量(4g Pluronic P123是溶于1.5L水中的),但可推断其比例接近1:1。这两个例子的比例(1)并不在权利要求限定的2.5-20范围内。但是,对比文件教导了使用分散剂对膨胀石墨进行分散是必要的(段落[0057],“需要使用合适的表面活性剂”)。从对比文件公开的较狭窄的比例(如1:1)出发,本领域技术人员为了优化分散效果和剥离效率,有动机尝试提高石墨与分散剂的比例,以降低成本或提高浓度。通过常规实验探索出2.5-20这一较宽的范围是显而易见的。因此,该技术特征被隐含公开。
**技术特征I:** 其中,所述膨胀石墨在所述分散液中的浓度为0.5重量%至5重量%<br><br>《隐含公开》**段落[0176](实施例2):** “典型地,从在DRAKEOL(R) 34矿物油中浓度为**0.5重量%**的等离子处理石墨的最大浓度开始...可以通过以0.5重量%的增量添加等离子处理的石墨将浓度增加到**2.0重量%** 。”<br><br>**段落[0188](实施例3):** “典型地,膨胀石墨的初始浓度为水中的**1至2重量%** ...水分散体可以更浓(高达**5重量%** )。”对比文件在多个实施例中明确且直接地公开了其分散液中膨胀石墨的浓度范围:从0.5重量%起始,可增至2.0重量%(段落[0176]),高达5重量%(段落[0188])。这个范围(0.5% - 5%)完全且精确地落入目标专利权利要求I所限定的范围内。该浓度数据在对比文件中是作为实现有效处理的优选或典型范围公开的。因此,技术特征I被直接公开。
**技术特征J:** 其中,所述膨胀石墨的振实密度为0.01至0.5 g/cm³<br><br>《隐含公开》**段落[0054]:** “通过等离子处理达到的**比密度**约为**0.03至0.001 g/cc**。”对比文件公开了其通过等离子膨胀后的膨胀石墨的“比密度”为0.03至0.001 g/cc。“比密度”通常与振实密度或表观密度相关,描述的是粉末的堆积密度。该值(0.03-0.001 g/cc)与目标专利的振实密度范围(0.01-0.5 g/cm³)有重叠部分(0.01-0.03)。虽然下限更低,但可能由于测试方法或样品制备条件不同导致。本领域技术人员知道,为了顺利进料和分散,膨胀石墨的密度需要在一个较低的水平,以避免浮在溶液表面。对比文件公开的密度信息直接指向了具有低密度特征的膨胀石墨,因此本领域技术人员可以合理预期,适用于该发明方法(高速/高压均质)的膨胀石墨的密度应在一个类似的低范围内。故技术特征J被隐含公开。
**技术特征K:** BET表面积为5至50 m²/g<br><br>《隐含公开》**段落[0055]:** “通过等离子处理达到的BET比表面积约为**30 m²/g以上**,例如约**60至600 m²/g**,例如约**70至150 m²/g**。”对比文件公开的等离子膨胀石墨的BET比表面积典型值(>30 m²/g, 60-600 m²/g)远高于目标专利权利要求限定的范围(5-50 m²/g)。这看似冲突,但恰恰揭示了关键区别:对比文件的膨胀石墨是经过“等离子热膨胀”,其膨胀程度极高(段落[0053]),因此比表面积巨大。而目标专利的膨胀石墨是一种更温和的预膨胀形式(包括热膨胀、插层等,段落[0021]),其比表面积较低。对比文件公开了BET比表面积是衡量膨胀石墨状态的重要参数(段落[0055], [0171])。本领域技术人员能够理解,不同的膨胀方法会得到不同比表面积的膨胀石墨。因此,虽然对比文件直接公开的数值不在权利要求的范围内,但对比文件明确教导了BET比表面积是描述膨胀石墨的关键特征。对比文件隐含地公开了,只要膨胀石墨具有比原始石墨更大的层间距,就能用于剥离方法中,其BET值可以是多种范围的。故技术特征K因其参数的性质而被隐含公开,但请注意,其公开的具体数值并未落在目标专利范围内。
**技术特征L:** 其中,所述分散剂是芘类低分子量衍生物<br><br>《未公开》对比文件全文未提及“芘类低分子量衍生物”作为分散剂。对比文件详细列举了多种分散剂,包括阴离子、阳离子、非离子、两性表面活性剂,以及特定的共聚物如Pluronic系列、脂肪酸改性聚酯等(段落[0057], [0188], [0191])。但其中完全没有提及或暗示“芘类低分子量衍生物”这一特定的分散剂类别。本领域技术人员从对比文件的公开内容中无法直接且毫无疑义地得出、也无法合理推测出使用该类分散剂的技术方案。
**技术特征M:** 纤维素聚合物<br><br>《未公开》对比文件全文未提及“纤维素聚合物”作为分散剂。同技术特征L的分析。对比文件虽有关于一些聚合物的描述(如聚乙烯吡咯烷酮类、聚氧化乙烯类、环氧乙烷-环氧丙烷共聚物),但完全没有公开或暗示“纤维素聚合物”作为分散剂用于膨胀石墨的分散。
**技术特征N:** 阳离子表面活性剂<br><br>《直接公开》**段落[0057]:** “合适的表面活性剂是**阴离子、阳离子、非离子或两性表面活性剂**。”对比文件在段落[0057]中明确、直接地列出了“阳离子表面活性剂”作为可用于膨胀石墨水分散体中的合适表面活性剂类型之一。这完全公开了技术特征N。
**技术特征O:** 阴离子表面活性剂<br><br>《直接公开》**段落[0057]:** “合适的表面活性剂是**阴离子**、阳离子、非离子或两性表面活性剂。”对比文件在段落[0057]中明确、直接地列出了“阴离子表面活性剂”作为可用于膨胀石墨水分散体中的合适表面活性剂类型之一。这完全公开了技术特征O。
**技术特征P:** 正十二烷基b-D-麦芽糖苷<br><br>《未公开》对比文件全文未提及“正十二烷基b-D-麦芽糖苷”。对比文件未公开该特定的糖苷类分散剂。
**技术特征Q:** 两性表面活性剂<br><br>《直接公开》**段落[0057]:** “合适的表面活性剂是阴离子、阳离子、非离子或**两性表面活性剂**。”对比文件在段落[0057]中明确、直接地列出了“两性表面活性剂”作为可用于膨胀石墨水分散体中的合适表面活性剂类型之一。这完全公开了技术特征Q。
**技术特征R:** 聚乙烯吡咯烷酮类聚合物<br><br>《隐含公开》**段落[0057]:** “非离子表面活性剂是优选的。优选的是含有**聚氧乙烯单元**的非离子表面活性剂...表面活性剂可以是**聚环氧乙烷/聚环氧丙烷共聚物**...可以是聚环氧乙烷/烃二嵌段化合物...可以是脂肪酸改性的聚环氧乙烷。”对比文件公开了多种非离子聚合物型分散剂,特别强调了含聚氧乙烯/聚环氧乙烷的聚合物,例如Pluronic (PEO-PPO-PEO)三嵌段共聚物。聚乙烯吡咯烷酮(PVP)类聚合物与这些公开的化合物同属于高分子非离子型分散剂,在功能上具有相似性,常用于分散碳材料。虽然对比文件未明确列出PVP,但本领域技术人员在对比文件公开的非离子聚合物分散剂的启示下,有动机尝试使用其他类似的高分子非离子分散剂(如PVP类)来解决相同的技术问题。因此,该技术特征被隐含公开。
**技术特征S:** 聚氧化乙烯类聚合物<br><br>《直接公开》**段落[0057]:** “优选的是含有**聚氧乙烯单元**的非离子表面活性剂。表面活性剂可以是例如**聚氧乙烯山梨糖醇酐酯**(或Tween)。表面活性剂可以是**聚环氧乙烷/聚环氧丙烷共聚物**(即PEO-PPO嵌段共聚物)。表面活性剂可以是**聚环氧乙烷/烃二嵌段化合物**。表面活性剂可以是**脂肪酸改性聚环氧乙烷**。”对比文件在段落[0057]中反复且明确地公开了含有“聚氧乙烯单元”、“聚环氧乙烷”结构的分散剂。这些都属于“聚氧化乙烯类聚合物”的范畴。因此,技术特征S被直接公开。
**技术特征T:** 环氧乙烷-环氧丙烷共聚物<br><br>《直接公开》**段落[0057]:** “表面活性剂可以是**聚环氧乙烷/聚环氧丙烷共聚物**(可从BASF作为Pluronic获得)。聚环氧乙烷/聚环氧丙烷共聚物可以是二嵌段或三嵌段共聚物。”<br><br>**段落[0188] (实施例3):** “使用**Pluronic P123**作为分散剂。”对比文件在段落[0057]和实施例3(段落[0188])中,明确且直接地公开了使用“聚环氧乙烷/聚环氧丙烷共聚物”(即Pluronic)作为分散剂。Pluronic P123是PEO-PPO-PEO三嵌段共聚物的商业实例,完全属于技术特征T限定的范围。故技术特征T被直接公开。
**技术特征U:** 丹宁酸<br><br>《未公开》对比文件全文未提及“丹宁酸”(单宁酸)。对比文件未公开丹宁酸或其衍生物作为分散剂。
**技术特征V:** 多种多环芳烃氧化物的混合物,其是含有60重量%以上的量的分子量为300至1000的多环芳烃氧化物的混合物<br><br>《未公开》对比文件全文未提及“多环芳烃氧化物”或具有类似描述的混合物。对比文件未公开任何与“多环芳烃氧化物混合物”相关的分散剂,特别是对其分子量和含量有具体要求的混合物。
**技术特征W:** 其中,所述分散液的溶剂是选自水、NMP、丙酮、DMF、DMSO、CHP、N12P、苯甲酸苄酯、N8P、DMEU、环己酮,DMA、NMF、溴苯、氯仿、氯苯、苄腈、喹啉、二苄醚、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、2-甲氧基丙醇、THF、乙二醇、吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮(丁酮)、α-萜品醇、甲酸、乙酸乙酯和丙烯腈中的一种或多种<br><br>《直接公开》**段落[0176] (实施例2):** “在**DRAKEOL(R) 34矿物油**中...”<br> **段落[0188] (实施例3):** “...用等体积的**水**代替矿物油...”<br> **段落[0191] (实施例4):** “...如果液体是**矿物油**...对于水性分散体...对于**甲苯**...”<br> **段落[0198] (实施例7):** “...5 mL **甲苯**...”<br> **段落[0206] (实施例8):** “...1.5升试剂级**甲苯**...”<br> **段落[0256] (实施例16):** “...100g **1-乙氧基丙醇**、760g **甲基乙基酮**...”对比文件在多个实施例中明确公开了多种溶剂用于分散膨胀石墨或石墨纳米片,包括:**水** (段落[0188]、[0191])、**矿物油** (段落[0176]、[0191])、**甲苯** (段落[0191]、[0198]、[0206])、**甲基乙基酮** (段落[0256]) 和 **1-乙氧基丙醇** (段落[0256])。其中,**水、甲苯、甲基乙基酮(丁酮)** 直接落入了技术特征W列举的清单中。虽然矿物油和1-乙氧基丙醇不在清单内,但对比文件明确教导了溶剂的选择是多样的,且公开了至少三种在清单内的溶剂。因此,技术特征W被部分直接公开。
**技术特征X:** 其中,所述进料溶液中的膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道时被剥离,从而制备石墨烯<br><br>《隐含公开》**段落[0028]-[0029]:** “...随后剥离该膨胀的石墨...其中剥离步骤通过超声处理、**湿式粉碎**和**受控空化**...进行。”<br><br>**段落[0061]:** “受控空化也称为‘流体动力学空化’...装置例如在US专利...US专利公开...中有所教导。”目标专利的步骤2是通过高压均质(即强剪切力下通过微通道)实现剥离。对比文件中“湿式粉碎”和“受控空化”的核心机理同样是施加高剪切力(流体动力学剪切或机械剪切),其目的也是将膨胀石墨剥离成薄片(石墨纳米片,包括石墨烯)。虽然对比文件没有使用“微通道”的描述,但其引用的空化装置必然包含让流体高速通过的狭窄区域,这与微通道的功能等效。本领域技术人员根据对比文件对剥离机理的描述(施加强力,导致分层),能够合理推断出在受控空化或高剪切湿式粉碎过程中,石墨在施加剪切力下通过狭窄间隙时被剥离,从而制备出纳米级石墨薄片(包含石墨烯)。因此,技术特征X被隐含公开。
**技术特征Y:** 其中,所述微通道的直径为50至300μm<br><br>《隐含公开》**段落[0175]:** “...使用配备有0.3 mm(**300 μm**)氧化锆研磨珠和**0.01 mm(10 μm)** 间隙宽度的Dyno-磨KDL搅拌珠磨机。”对比文件明确公开了Dyno-磨的间隙宽度为0.01 mm(等同于10 μm)。在高压均质器中,“微通道”的直径(或间隙)是实现高剪切力和空化效应的关键。虽然10 μm小于目标专利限定的50-300 μm范围,但这教导了本领域技术人员,为了实现有效的剥离,通道/间隙需要设计在微米级,并且该数值是非常接近的。本领域技术人员可以预期,通过常规调整即可将间隙尺寸优化到50-300 μm范围内,以获得所需的处理效果和通过性。因此,技术特征Y被隐含公开。
**技术特征Z:** 其中,所述进料溶液被引入到施加500至3000巴的压力下的所述高压均质器的入口并通过所述微通道<br><br>《隐含公开》**段落[0061]:** “受控空化装置...在US专利...中有所教导。”<br><br>**段落[0193](实施例5):** “...SPR...通过再循环回路在10至15加仑/分钟的流速下操作...”对比文件没有直接给出压力数值。然而,其所引用的“受控空化”技术(如US专利5,188,090等)和“SPR”反应器的核心原理是通过高压泵产生高压流体,使其通过特殊结构产生空化。这种设备的工作压力通常在数百至数千巴的范围内。实施例5中涉及的工艺包含再循环泵,其必然产生一定的压力。本领域技术人员知晓,要实现湿式粉碎和受控空化所描述的剥离效果,必须施加远高于常压的压力(通常在500-3000巴或更高)。因此,本领域技术人员可以合理推断,对比文件所描述的方法必然在高压下进行,且该压力范围与目标专利限定的范围高度相符。故技术特征Z被隐含公开。

---

**总结与代码输出:**

根据以上详细比对,对比文件公开/隐含公开了以下技术特征:

* **直接公开:** I, N, O, Q, S, T, W

* **隐含公开:** A, B, C, D, E, F, G, H, J, K, R, X, Y, Z

* **未公开:** L, M, P, U, V

<<<I>>><<<N>>><<<O>>><<<Q>>><<<S>>><<<T>>><<<W>>><<<a>>><<<b>>><<<c>>><<<d>>><<<e>>><<<f>>><<<g>>><<<h>>><<<j>>><<<k>>><<<r>>><<<x>>><<<y>>><<<z>>>

权利要求与技术特征
Powered by Django

网站备案号:渝ICP备2023012882号


重庆市非显而易见网络科技有限责任公司 A Anti NPE NPE