对比文件名称：2009-04-22_EP2050527A_发明公开_EP2050527A1 Method of producing open-cell inorganic foam
目标专利名称：1629制造金属泡沫的方法CN108883470B
模型名称：本回答基于指定AI模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译并注明段落） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括对包含金属组分和盐的生坯结构进行烧结的步骤，所述金属组分包含相对磁导率为90或更大的导电金属<br>**未公开** | 对比文件方法如实施例2（[0053]-[0054]）包括：将镍粉与NaCl混合成型，加热至220°C使粘合剂熔融，冷却后先用水溶解NaCl和PEO，再于650°C烧除粘合剂，最后在1000°C氢气氛中烧结。烧结步骤（[0015]步骤g）是在除去盐之后进行的。 | 对比文件虽然包括烧结步骤，但该步骤是在去除盐之后进行的，烧结时的生坯结构已不含盐，因此不属于“对包含金属组分和盐的生坯结构进行烧结”。对比文件未公开该特征。 |
| **技术特征B**：其中所述金属组分中的所述导电金属的比例为80重量％或更大<br>**直接公开** | 实施例2（[0053]）组成：11 wt%镍粉、81.5 wt% NaCl、5.5 wt% LDPE、2 wt% PEO。金属组分仅为镍粉。 | 对比文件中导电金属（镍）占金属组分的比例为100 wt%，满足80 wt%或更大的要求。该特征被直接公开。 |
| **技术特征C**：其中所述生坯结构呈膜状<br>**隐含公开** | [0039]：“将干粉混合物倒入具有任何给定形状的模具中” ([0015]步骤b) 。 | 对比文件虽未明确“膜状”，但该方法允许通过模具成型为任何形状，包括膜状。本领域技术人员可合理推断可制成膜状结构，因此该特征被隐含公开。 |
| **技术特征D**：其中所述膜的厚度为1000μm或更小；并且所述生坯结构的烧结仅通过向所述结构施加电磁场来进行<br>**未公开** | 对比文件全文未涉及膜厚度限制，也未记载任何电磁场或感应加热烧结方式。 | 对比文件未公开膜厚度≤1000μm，其烧结采用传统炉内加热，而非施加电磁场。该特征未被公开。 |
| **技术特征E**：通过施加所述电磁场，通过所述金属组分的所述导电金属中的感应加热现象产生焦耳热，从而烧结所述结构<br>**未公开** | 对比文件未提及电磁场或感应加热。 | 对比文件的烧结由高温炉加热实现，不涉及电磁场及感应加热。该特征未被公开。 |
| **技术特征F**：其中所述电磁场通过施加频率在100kHz至1000kHz范围内的电流来形成<br>**未公开** | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开任何电磁场形成条件，该特征未被公开。 |
| **技术特征G**：其中施加所述电磁场持续1分钟至30分钟范围内的时间<br>**未公开** | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未涉及电磁场施加时间，该特征未被公开。 |
| **技术特征H**：其中通过涂覆所述金属组分和所述盐的混合物来形成所述生坯结构<br>**未公开** | 对比文件公开的成型方法是将粉末混合物倒入模具（[0039]、[0015]步骤b），未提及涂覆。 | 对比文件未公开通过涂覆方式形成生坯结构，该特征未被公开。 |
| **技术特征I**：其中所述导电金属为镍、铁或钴<br>**直接公开** | 实施例2（[0053]）明确使用镍粉；[0020]指出无机颗粒可以是金属。 | 对比文件公开了使用镍作为金属组分，镍是所列导电金属之一。该特征被直接公开。 |
| **技术特征J**：其中所述盐为NaCl、KCl、K2CO3、KOH、NaOH、CsCl、CaCl2、MgBr2、MgCl2、Na2SiO3、Na2CO3、NaHCO3、NH4Br或NH4Cl<br>**直接公开** | 实施例1、2、3（[0050][0053][0056]）均使用NaCl作为空间保持填料；[0043]提及可溶性空间保持填料可为无机颗粒。 | 对比文件公开了使用NaCl，NaCl是所列盐中的一种。该特征被直接公开。 |
| **技术特征K**：其中所述导电金属的平均粒径在10μm至100μm的范围内<br>**隐含公开** | [0040]：“无机颗粒的粒径在0.5至600微米之间”。 | 对比文件公开的无机颗粒粒径范围包含10-100μm，本领域技术人员可选择该范围用于金属粉末。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征L**：其中所述盐的粒径在30μm至250μm的范围内<br>**隐含公开** | [0043]：“空间保持填料可按尺寸和形状分类”；实施例中使用了200-400μm、800-1000μm、1200-1400μm的NaCl，但方法未限定粒径。 | 对比文件虽实施例采用较大粒径，但方法允许选择任何粒径，本领域技术人员可合理选用30-250μm的盐颗粒。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征M**：其中所述电磁场通过施加100A至1000A范围内的电流来形成<br>**未公开** | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未涉及电磁场或电流施加，该特征未被公开。 |
| **技术特征N**：其中所述导电金属在20℃下的电导率为8MS/m或更大<br>**隐含公开** | 实施例2（[0053]）使用镍，本领域公知镍在20℃电导率约14.5 MS/m（≥8 MS/m）。 | 对比文件公开了镍的应用，而镍的电导率满足该要求，本领域技术人员已知其导电性。该特征被隐含公开。 |
| **技术特征O**：其中所述生坯结构包含基于重量的30重量％或更大的所述导电金属<br>**未公开** | 实施例2（[0053]）组成：镍粉仅占11 wt%（生坯结构总重）。其他实施例中钛（48 wt%）非导电磁性金属。 | 对比文件中导电金属在生坯结构中的比例（镍11 wt%）未达到30 wt%，且无启示可达到该比例。该特征未被公开。 |
| **技术特征P**：其中相对于100重量份的所述金属组分，所述生坯结构包含10重量份至1000重量份的所述盐<br>**直接公开** | 实施例2（[0053]）：Ni 11 wt%，NaCl 81.5 wt%，盐/金属重量比=81.5/11≈7.41（即741/100）；实施例1：44/48≈0.917（91.7/100）；实施例3：55/36≈1.53（153/100）。 | 对比文件多个实施例中盐与金属组分的重量比均在10-1000范围内。该特征被直接公开。 |
| **技术特征Q**：还进行在烧结之后除去所述盐的步骤<br>**未公开** | [0015]步骤e)在烧结步骤g)之前去除空间保持填料；实施例1-3（[0050][0053][0056]）均在烧结前通过溶解去除NaCl。 | 对比文件的除盐步骤在烧结之前进行，与特征Q的顺序相反，未公开烧结后除盐。该特征未被公开。 |
### 公开性代码
根据对比文件公开情况，判断结果如下：
**直接公开的技术特征**：B、I、J、P → <<<B>>><<<I>>><<<J>>><<<P>>>
**隐含公开的技术特征**：C、K、L、N → <<<c>>><<<k>>><<<l>>><<<n>>>
（其他技术特征A、D、E、F、G、H、M、O、Q未公开，不插入代码。）