对比文件名称：2011-12-28_CN101223198B_发明授权_CN101223198B 固化性组合物、固化膜及层叠体
目标专利名称：1641抗反射膜CN108473791B
本次调用的模型名称：通义千问
| 技术特征及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层《直接公开》 | 对比文件防反射膜制作部分（低折射率涂布液的制作）：“混合50重量份1,2,9,10-四丙烯酰氧基-4,4,5,5,6,6,7,7-八氟癸烷、120重量份二氧化硅溶胶30%分散液(MEK-ST)、10重量份2’,2’-二((甲基)丙烯酰氧基甲基)丙酸(2-羟基)-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-十九氟十一烷基酯、900重量份丁醇、5重量份光聚合引发剂，调制低折射率涂布液。”随后“在得到的固化膜上进一步涂布上述低折射率涂布液……得到层叠体。” | 对比文件公开的低折射率涂布液包含可光聚合的含氟丙烯酸酯（固化后形成粘合剂树脂）和二氧化硅溶胶（无机细颗粒），涂布固化后形成低折射率层，与特征A的低折射率层结构实质相同，因此直接公开。 |
| 技术特征B：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物《未公开》 | 对比文件全文未提及“聚倍半硅氧烷”或任何倍半硅氧烷化合物。 | 对比文件低折射率层的粘合剂树脂仅由含氟丙烯酸酯聚合而成，未涉及任何聚倍半硅氧烷，因此特征B未公开。 |
| 技术特征C：和硬涂层《直接公开》 | 对比文件防反射膜制作部分：“使用实施例3的金属氧化物分散浆料，调制表3所示的配合组成的各固化性组合物。使用刮棒涂布器将该固化性组合物涂布到100μm厚的易粘接处理PET膜上……形成抗静电用硬涂层(固化膜)。”随后“在得到的固化膜上进一步涂布上述低折射率涂布液……” | 对比文件明确公开了在基材上形成固化膜（硬涂层），再在其上形成低折射率层，即抗反射膜包含硬涂层，直接公开。 |
| 技术特征D：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小《未公开》 | 对比文件未涉及内部雾度、总雾度及其比率的任何描述或数据。 | 对比文件没有公开任何雾度参数或比率，因此未公开。 |
| 技术特征E：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小《未公开》 | 对比文件未提及碱处理或色坐标b*的变化。 | 对比文件没有涉及碱处理及色坐标变化的任何内容，因此未公开。 |
| 技术特征F：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％《未公开》 | 对比文件防反射膜制作部分公开了具体含氟化合物（如八氟癸烷），但未公开其氟含量数值范围。 | 对比文件虽使用含氟化合物，但未公开氟含量范围，本领域技术人员无法直接得知该范围，因此未公开。 |
| 技术特征G：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒《未公开》 | 对比文件未公开含氟化合物的重均分子量，也未公开碱处理的具体条件。 | 对比文件未提供分子量信息，也未涉及碱处理过程，因此未公开。 |
| 技术特征H：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65《未公开》 | 对比文件未涉及椭圆偏光法测量或柯西模型。 | 对比文件没有任何关于椭圆偏光法或柯西参数的描述，因此未公开。 |
| 技术特征I：B为0至0.05《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征J：C为0至0.05《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征K：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内《未公开》 | 对比文件未公开该公式。 | 对比文件未涉及该公式及参数，未公开。 |
| 技术特征L：A、B和C为柯西参数《未公开》 | 对比文件未提及。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征M：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75《未公开》 | 对比文件未涉及。 | 未公开。 |
| 技术特征N：B为0至0.05《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征O：C为0至0.005《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征P：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征Q：A、B和C为柯西参数《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征R：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm《未公开》 | 对比文件防反射膜制作部分：“调整层厚使得由干燥膜厚表示λ/4的光波长为550nm左右。”即约138nm。 | 对比文件仅公开了低折射率层的具体厚度（约138nm），未公开1-200nm的范围，且无教导可调整至范围端点，未公开。 |
| 技术特征S：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm《未公开》 | 对比文件防反射膜制作部分：“使用刮棒涂布器涂布……使得干燥膜厚为6μm。”另在固化膜评价部分有“干燥后的膜厚为5μm”。 | 对比文件仅公开了硬涂层的具体厚度（5μm或6μm），未公开0.1-100μm的范围，未公开。 |
| 技术特征T：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50《未公开》 | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷。 | 对比文件无聚倍半硅氧烷，故无该重量比，未公开。 |
| 技术特征U：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇《未公开》 | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷。 | 未公开。 |
| 技术特征V：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征W：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征X：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团《未公开》 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征Y：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物《直接公开》 | 对比文件防反射膜制作部分低折射率涂布液中的“1,2,9,10-四丙烯酰氧基-4,4,5,5,6,6,7,7-八氟癸烷”含有丙烯酸酯基；另在硬涂层部分也使用了多种(甲基)丙烯酸酯化合物。 | 对比文件中低折射率层的可光聚合化合物明确含有(甲基)丙烯酸酯基团，属于含有(甲基)丙烯酸酯的单体，因此直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基《直接公开》 | 同上，低折射率涂布液中的含氟化合物为“1,2,9,10-四丙烯酰氧基-4,4,5,5,6,6,7,7-八氟癸烷”，含有(甲基)丙烯酸酯基。 | 对比文件中低折射率层使用的基于氟的化合物含有(甲基)丙烯酸酯基的光反应性官能团，因此直接公开。 |
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