对比文件：2013-04-19_KR101256552B_发明授权_KR101256552B1 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
目标专利：1641抗反射膜CN108473791B
本次调用的模型名称：基于深度学习的大语言模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层 **《直接公开》** | 对比文件[0016]记载：所述低折射率层包括：包含多官能（甲基）丙烯酸酯化合物与氟系（甲基）丙烯酸酯化合物的交联共聚物的第二粘合剂，和分散在所述第二粘合剂中的中空二氧化硅颗粒及氟化合物表面涂覆的中空二氧化硅颗粒。 | 对比文件公开的低折射率层具有粘合剂树脂（交联共聚物）和分散的无机细颗粒（中空二氧化硅颗粒），与特征A的定义一致。该层在对比文件中同样起到降低反射率的作用，因此本领域技术人员可直接地毫无疑义地确定该特征已被公开。 |
| **技术特征B**：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物 **《未公开》** | 对比文件未记载任何关于聚倍半硅氧烷的内容。 | 对比文件中低折射率层的粘合剂树脂为多官能（甲基）丙烯酸酯与氟系（甲基）丙烯酸酯的交联共聚物，完全不包含聚倍半硅氧烷。因此该特征未被公开。 |
| **技术特征C**：和硬涂层 **《未公开》** | 对比文件[0015]-[0016]仅公开由高折射率层和低折射率层构成的抗反射膜，未提及硬涂层。 | 对比文件的膜结构由高折射率层和低折射率层组成，没有单独设置硬涂层，且其一次涂覆方法并不形成额外的硬涂层。因此本特征未公开。 |
| **技术特征D**：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小 **《未公开》** | 对比文件未涉及内部雾度、总雾度或其比率的测量或定义。 | 对比文件完全没有雾度相关参数的记载，无法得出该特征。 |
| **技术特征E**：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小 **《未公开》** | 对比文件未提及碱处理或色坐标b*。 | 对比文件没有任何耐碱性测试或颜色变化内容的教导。 |
| **技术特征F**：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％ **《未公开》** | 对比文件未给出氟系化合物的氟含量数值。 | 对比文件虽使用了氟系化合物，但未公开其氟含量范围。 |
| **技术特征G**：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒 **《未公开》** | 对比文件未记载重均分子量及碱处理条件。 | 对比文件既没有提供氟化合物的分子量信息，也没有任何碱处理测试方法。 |
| **技术特征H**：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65 **《未公开》** | 对比文件未提及椭圆偏光法、柯西模型或参数A。 | 对比文件涉及折射率测量但未采用椭圆法和柯西拟合，无相关内容公开。 |
| **技术特征I**：B为0至0.05 **《未公开》** | 同上。 | 同特征H。 |
| **技术特征J**：C为0至0.05 **《未公开》** | 同上。 | 同特征H。 |
| **技术特征K**：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 **《未公开》** | 对比文件未记载该公式或任何类似内容。 | 对比文件没有公开任何公式或波长范围。 |
| **技术特征L**：A、B和C为柯西参数 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征M**：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75 **《未公开》** | 对比文件未提及硬涂层或相关参数。 | 对比文件没有硬涂层，也没有任何椭圆或柯西内容。 |
| **技术特征N**：B为0至0.05 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征O**：C为0至0.005 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征P**：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征Q**：A、B和C为柯西参数 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征R**：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm **《直接公开》** | 对比文件[0186]记载：저굴절율층의 두께: 약 0.12 ㎛（低折射率层的厚度：约0.12μm）。 | 对比文件明确公开低折射率层厚度为0.12μm（120nm），落在1nm至200nm范围内，因此直接公开。 |
| **技术特征S**：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm **《未公开》** | 对比文件未记载硬涂层，故无厚度数值。 | 由于对比文件没有硬涂层，该特征未公开。 |
| **技术特征T**：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50 **《未公开》** | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷，故无此重量比。 | 对比文件没有聚倍半硅氧烷，因此无法公开该比例。 |
| **技术特征U**：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇 **《未公开》** | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷，更未讨论其官能团。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此未公开其官能团种类。 |
| **技术特征V**：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征W**：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷 **《未公开》** | 对比文件未涉及任何笼型POSS。 | 对比文件没有公开POSS或其结构。 |
| **技术特征X**：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团 **《未公开》** | 同上。 | 同上。 |
| **技术特征Y**：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物 **《直接公开》** | 对比文件[0079]记载：다관능 (메트)아크릴레이트 화합물은 (메트)아크릴레이트계 모노머, (메트)아크릴레이트계 올리고머 또는 이들의 혼합물일 수 있다（多官能（甲基）丙烯酸酯化合物可以是（甲基）丙烯酸酯类单体、（甲基）丙烯酸酯类低聚物或它们的混合物）。 | 对比文件明确公开可光聚合化合物是多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，其属于含有（甲基）丙烯酸酯的单体或低聚物，因此直接公开。 |
| **技术特征Z**：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基 **《直接公开》** | 对比文件[0106]记载：불소계 (메트)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 5로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 것이 바람직하다（氟系（甲基）丙烯酸酯化合物优选自化学式1至化学式5的化合物），化学式1-5均含有（甲基）丙烯酸酯基团。 | 对比文件公开的氟系（甲基）丙烯酸酯必然包含（甲基）丙烯酸酯基光反应性官能团，该基团属于所述列表之一，因此直接公开。 |
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