这是本次评估的对比文件、目标专利和模型名称。
对比文件名称：2012-12-12_JP5098571B_发明专利_JP5098571B2 Optical laminate, a polarizing plate and image display device
目标专利名称：1668减反射膜和显示装置 CN108027456B
本次调用的模型名称：未指定
以下为特征比对表格：
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| A：包括：硬涂层《直接公开》 | [2]“本発明は、光透過性基材と、表面に凹凸形状を有する防眩層とを有する光学積層体であって、…”（翻译：本发明是一种光学积层体，具有光透过性基材和表面具有凹凸形状的防眩层） | 对比文件中的“防眩层”即相当于目标专利的“硬涂层”，两者均为主体凹凸层，用于防眩光。对比文件明确公开了防眩层，因此技术特征A被直接公开。 |
| B：在所述硬涂层上形成的低折射率层《直接公开》 | [2]“本発明の光学積層体は、更に、低屈折率層を有するものであることが好ましい。”以及“低屈折率層は、防眩層の表面に形成されてなり、…”（翻译：本发明的光学积层体优选进一步具有低折射率层。低折射率层形成在防眩层表面） | 对比文件明确记载低折射率层形成在防眩层（即硬涂层）上，因此技术特征B被直接公开。 |
| C：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5《未公开》 | [2]“上記防眩層は、表面の歪度（Ｒｓｋ）の絶対値が１以下である。”以及“好ましい下限は絶対値で０．０１であり、好ましい上限は絶対値で０．５である。”（翻译：防眩层表面的歪度（Rsk）的绝对值在1以下，优选绝对值下限0.01，上限0.5） | 对比文件公开的Rsk绝对值范围为0.01~0.5，而目标专利要求Rsk>0.5且<5，两者范围完全不重叠且方向不同（对比文件强调绝对值小，目标专利要求正值且大于0.5）。本领域技术人员不能毫无疑义地从对比文件得出该技术特征，也无法合理推断出Rsk>0.5。因此C未被直接或隐含公开。 |
| D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度《未公开》 | [2]“平均傾斜角度（θａ）が０．３～０．６°であることを特徴とする”以及“θａは、０．５～２．０°が好適な範囲である。”（翻译：平均倾斜角θa为0.3~0.6°，优选0.5~2.0°） | 对比文件公开的平均倾斜角下限为0.3°，远大于目标专利的上限0.2°，两者范围不重叠。本领域技术人员无法从对比文件得出0.01~0.2°的倾斜角，也无法合理推断。因此D未被公开。 |
| E：其中，所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒《直接公开》 | [2]“上記防眩層は、バインダー樹脂を含有する。”以及“上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。”和“上記防眩剤としては特に限定されず、無機系材料からなるもの、有機系材料からなるもの等を使用することができる。上記有機系材料からなる防眩剤としては、例えば、プラスチックビーズが挙げられる。上記無機系材料からなる防眩剤としては、例えば、不定形シリカ、無機シリカビーズ等が挙げられる。”（翻译：防眩层含有粘合剂树脂。粘合剂树脂可列举电离辐射固化型树脂，例如具有丙烯酸酯基的化合物等。防眩剂没有特别限定，可使用无机材料或有机材料，例如塑料珠、不定形二氧化硅、无机二氧化硅珠等） | 对比文件中的防眩层（硬涂层）明确包含粘合剂树脂（可光聚合的电离辐射固化型树脂）和分散的防眩剂（相当于有机或无机微粒）。因此技术特征E被直接公开。 |
| F：其中，所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm《隐含公开》 | [2]“不定形シリカ（平均粒径１μｍ、表面処理品）”和“上記内部散乱粒子の平均粒径は、１～２０μｍであることが好ましい。より好ましい下限は１．５μｍ、より好ましい上限は５μｍである。”（翻译：不定形二氧化硅（平均粒径1μm）；内部散射粒子的平均粒径优选1~20μm，更优选下限1.5μm、上限5μm） | 对比文件公开了防眩剂（不定形二氧化硅）平均粒径1μm，内部散射粒子平均粒径优选1.5~5μm。这些具体值均落在1~5μm范围内。本领域技术人员可以合理推断出可以使用粒径1~5μm的微粒，因此该特征被隐含公开。 |
| G：其中，所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm《直接公开》 | [2]“上記防眩層は、単層構造であることが好ましく、その層厚み（乾燥時）は、２～１５μｍであることが好ましい。”以及实施例1中“形成した防眩層の総厚は約８μｍであった。”（翻译：防眩层优选单层结构，其层厚（干燥时）优选2~15μm。实施例1中形成的防眩层总厚约8μm） | 对比文件公开的防眩层厚度范围2~15μm包含5~10μm，且具体实施例为8μm，直接落在5~10μm内。因此技术特征G被直接公开。 |
| H：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果《直接公开》 | [2]“Ｚｙｇｏ社製白色干渉式光学顕微鏡ＮｅｗＶｉｅｗ６３００型を用い、以下の条件で光学積層体表面の尖度（Ｒｋｕ）及び歪度（Ｒｓｋ）を測定した。”以及“平均傾斜角度（θａ）は、ＩＳＯ−４２８８−１９８５に記載された粗さ測定法により測定した。”（翻译：使用Zygo公司制造的白色干涉式光学显微镜NewView6300型测量Rku和Rsk；平均倾斜角θa根据ISO-4288-1985粗糙度测量法测定） | 对比文件明确使用非接触式光学轮廓仪（白色干涉显微镜）测量Rsk和倾斜角，即3D光学轮廓仪。因此技术特征H被直接公开。 |
| I：其中，所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％《未公开》 | 对比文件全文未提及反射率的具体数值。 | 对比文件没有公开任何关于反射率的数据或范围，本领域技术人员也无法从对比文件的内容合理推断出反射率小于4%。因此I未被公开。 |
| J：其中，所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％《未公开》 | [2]“上記光学積層体は、内部ヘイズ値が０～７０％以下であることが好ましい。”（翻译：光学积层体的内部雾度值优选为0~70%以下） | 对比文件公开的内部雾度范围极宽（0~70%），并未特别教导或启示内部雾度在0~10%之间，也没有任何实施例指向该范围。本领域技术人员不能从对比文件直接得到或合理推断出内部雾度大于0且小于10%的技术特征。因此J未被公开。 |
| K：其中，所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％《直接公开》 | [2]“表面ヘイズが０．２～５％であることを特徴とする”（翻译：表面雾度为0.2~5%） | 对比文件公开的表面雾度（即目标专利的外部雾度）范围为0.2~5%，该范围包含0.2~0.5%这一子范围，而目标专利要求的外部雾度大于0且小于0.5%包含0.2~0.5%的情况。因此本领域技术人员可以直接得到外部雾度在0.2~0.5%的技术方案，即该特征被直接公开。 |
| L：其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒《未公开》 | [2]“上記防眩剤の含有量としては、防眩層を形成する際に使用される防眩層用組成物の固形分１００質量部に対して２～１０質量部であることが好ましい。”和“上記内部散乱粒子の含有量は、防眩層を形成する際に使用される防眩層用組成物の固形分１００質量部に対して０．５～２０質量部であることが好ましい。”（翻译：防眩剂含量，相对于防眩层用组合物固形分100质量份，优选2~10质量份；内部散射粒子含量，相对于固形分100质量份，优选0.5~20质量份） | 对比文件中的含量是相对于固形分总量，而非相对于可光聚合化合物的(共)聚合物。目标专利的基准是“可光聚合化合物的(共)聚合物”，对比文件没有给出基于该基准的含量范围，且无法直接换算得出。本领域技术人员不能毫无疑义地确定该特征，也不能合理推断。因此L未被公开。 |
| M：其中，基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子《未公开》 | 对比文件全文未提及直径为1nm至50nm的无机纳米粒子，也未提及基于微粒总重量的含量比例。 | 对比文件完全没有公开任何关于小尺寸无机纳米粒子（1~50nm）及其特定含量的内容。因此M未被公开。 |
| N：其中，所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子《未公开》 | 对比文件全文未提及直径大于50nm且120nm以下的无机纳米粒子。 | 对比文件没有公开该尺寸范围的无机纳米粒子。因此N未被公开。 |
| O：其中，所述低折射率层包含：粘合剂树脂《直接公开》 | [2]“低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。”（翻译：低折射率层可由含有二氧化硅或氟化镁的材料、氟系材料、含有二氧化硅或氟化镁的氟系材料、二氧化硅或氟化镁的薄膜等构成） | 对比文件中的低折射率层材料包含树脂（如氟系材料），因此必然包含粘合剂树脂。故技术特征O被直接公开。 |
| P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物《未公开》 | 对比文件全文未提及聚倍半硅氧烷（POSS）及其与氟系化合物的交联聚合物。 | 对比文件低折射率层的粘合剂树脂中完全没有公开或暗示聚倍半硅氧烷的存在。因此技术特征P未被公开。 |
| Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒《直接公开》 | [2]“低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。”以及“空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、…シリカ微粒子を挙げることができる。”（翻译：低折射率层中，优选使用“具有空隙的微粒”作为低折射率剂。作为具有空隙的无机系微粒，例如可列举二氧化硅微粒） | 对比文件明确公开低折射率层中含有分散的无机微粒（如中空二氧化硅微粒）。因此技术特征Q被直接公开。 |
| R：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团《未公开》 | 对比文件全文未公开聚倍半硅氧烷及其取代官能团。 | 由于对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此其上的反应性官能团自然也未被公开。故R未被公开。 |
| S：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代《未公开》 | 对比文件全文未公开聚倍半硅氧烷及其非反应性官能团。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此S未被公开。 |
| T：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷《未公开》 | 对比文件全文未公开任何类型的聚倍半硅氧烷。 | 对比文件未公开笼形POSS，故T未被公开。 |
| U：其中，所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代《未公开》 | 对比文件全文未公开笼形POSS及其取代情况。 | 对比文件未公开笼形POSS，故U未被公开。 |
| V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代《未公开》 | 对比文件全文未公开笼形POSS及其取代情况。 | 对比文件未公开笼形POSS，故V未被公开。 |
| W：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上《未公开》 | 对比文件全文未公开聚倍半硅氧烷及其官能团比例。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，故W未被公开。 |
| X：其中，所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物《直接公开》 | [2]“上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。…多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物…等を挙げることができる。”（翻译：电离辐射固化型树脂可列举具有丙烯酸酯基等的1个或2个以上不饱和键的化合物…多官能化合物与（甲基）丙烯酸酯的反应产物等） | 对比文件明确公开了可光聚合的化合物包含具有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体/低聚物，因此技术特征X被直接公开。 |
| Y：其中，所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种《直接公开》 | [2]“フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。…（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート…等。”（翻译：作为具有电离辐射固化性基团的含氟聚合性化合物，可广泛使用具有烯属不饱和键的含氟单体。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的化合物，如2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯等） | 对比文件公开了含氟化合物具有(甲基)丙烯酸酯基等光反应性官能团，因此技术特征Y被直接公开。 |
| Z：其中，所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子《直接公开》 | [2]“「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。”以及“空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、…シリカ微粒子を挙げることができる。”（翻译：“具有空隙的微粒”的平均粒径为5nm以上300nm以下，优选下限8nm以上、上限100nm以下，更优选下限10nm以上、上限80nm以下。作为具有空隙的无机微粒，例如可列举二氧化硅微粒） | 对比文件明确公开了中空二氧化硅微粒（空隙微粒），其平均粒径范围包含10~100nm（尤其更优选10~80nm）。因此技术特征Z被直接公开。 |
根据以上分析，直接公开的特征有：A、B、E、G、H、K、O、Q、X、Y、Z。隐含公开的特征有：F。未公开的特征有：C、D、I、J、L、M、N、P、R、S、T、U、V、W。
因此，输出代码为：
<<A>> <<B>> <<E>> <<F>> <<G>> <<H>> <<K>> <<O>> <<Q>> <<X>> <<Y>> <<Z>> <<a>> <<b>> <<c>> <<e>> <<g>> <<h>> <<k>> <<o>> <<q>> <<x>> <<y>> <<z>>
但注意：隐含公开的特征F对应代码f（小写）。所以应该有小写f。另外，直接公开的特征对应大写，隐含公开的小写。我们只输出有公开的特征代码，未公开的不输出。
所以结尾代码：<<A>> <<B>> <<E>> <<F>> <<G>> <<H>> <<K>> <<O>> <<Q>> <<X>> <<Y>> <<Z>> <<f>>
但注意：特征F是隐含公开，所以用小写f。但是用户要求：若对比文件直接公开了技术特征A则在回答的结尾插入大写英文代码<<<A>>>，若隐含公开了技术特征A则插入小写<<<a>>>。所以对于直接公开的特征，我们插入大写；对于隐含公开的特征，我们插入小写。注意：特征F是隐含公开，所以插入<<<f>>>。但表格中我们判断F隐含公开，所以代码f。
但我们还需要确认代码格式：用户要求“<<<A>>>”三个尖括号？实际上用户写的是“<<<A>>>”，但后面也写“<<<a>>>”。所以应该是三个尖括号。但我们在输出时统一用三个尖括号。
在表格中我们写的是“直接公开”等，但在结尾代码中要按格式。
注意：用户说“若对比文件直接公开了技术特征A请在回答的结尾插入大写英文代码<<<A>>>”，所以是三个尖括号。我们遵循。
现在，在回答的结尾，我们只插入有公开的特征的代码，按顺序？但用户没有指定顺序，我们可以按字母顺序或出现顺序。为了清晰，我们按特征字母顺序排列代码。
但注意：用户要求“若对比文件直接公开了技术特征A请在回答的结尾插入代码大写英文代码<<<A>>>，若对比文件直接公开了技术特征B请在回答的结尾插入代码大写英文代码<<<B>>>，以此类推。”所以每个特征单独插入，可能多个代码连续。我们可以在回答末尾单独一行列出所有代码。
我们写为：<<<A>>> <<<B>>> <<<E>>> <<<F>>> <<<G>>> <<<H>>> <<<K>>> <<<O>>> <<<Q>>> <<<X>>> <<<Y>>> <<<Z>>> <<<f>>>
但注意：特征F隐含公开，所以用<<<f>>>。
但特征F是隐含公开，小写f。其他直接公开的大写。
另外，我们还需要检查是否有其他隐含公开的特征？我们判断只有F是隐含公开。其他特征如C、D等未公开，所以无代码。
所以最终代码为：<<<A>>> <<<B>>> <<<E>>> <<<f>>> <<<G>>> <<<H>>> <<<K>>> <<<O>>> <<<Q>>> <<<X>>> <<<Y>>> <<<Z>>>
我们按字母顺序排列：A、B、E、f、G、H、K、O、Q、X、Y、Z。但f是小写，放在E之后？用户没有要求顺序，但为了整洁，我们按字母顺序，小写字母排在大写之后？通常按字母顺序，小写在大写之后？但也可按特征顺序。我们按特征顺序A到Z，但只输出有公开的，所以按A、B、E、F、G、H、K、O、Q、X、Y、Z，其中F是隐含公开，所以小写。
在回答中，我们已经在表格中详细论述，现在在结尾插入代码。
注意：要求“在回答的结尾插入”，所以我们在表格之后，另起一行插入。
现在，我们写出完整的回答。包括开头名称和表格，然后结尾代码。
注意：表格的第三栏我们已写论述，第二栏是原文引用。我们确保引用准确。
我们开始写最终回答。注意：由于表格很长，我们需要确保markdown格式正确。
我们开始输出。注意：在回答中，我们直接输出。由于是文本，我们注意格式。
最终回答如下：```
对比文件名称：2012-12-12_JP5098571B_发明专利_JP5098571B2 Optical laminate, a polarizing plate and image display device
目标专利名称：1668减反射膜和显示装置 CN108027456B
本次调用的模型名称：未指定
特征比对表格：
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| A：包括：硬涂层《直接公开》 | [2]“本発明は、光透過性基材と、表面に凹凸形状を有する防眩層とを有する光学積層体であって、…”（翻译：本发明是一种光学积层体，具有光透过性基材和表面具有凹凸形状的防眩层） | 对比文件中的“防眩层”即相当于目标专利的“硬涂层”，两者均为主体凹凸层，用于防眩光。对比文件明确公开了防眩层，因此技术特征A被直接公开。 |
| B：在所述硬涂层上形成的低折射率层《直接公开》 | [2]“本発明の光学積層体は、更に、低屈折率層を有するものであることが好ましい。”以及“低屈折率層は、防眩層の表面に形成されてなり、…”（翻译：本发明的光学积层体优选进一步具有低折射率层。低折射率层形成在防眩层表面） | 对比文件明确记载低折射率层形成在防眩层（即硬涂层）上，因此技术特征B被直接公开。 |
| C：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5《未公开》 | [2]“上記防眩層は、表面の歪度（Ｒｓｋ）の絶対値が１以下である。”以及“好ましい下限は絶対値で０．０１であり、好ましい上限は絶対値で０．５である。”（翻译：防眩层表面的歪度（Rsk）的绝对值在1以下，优选绝对值下限0.01，上限0.5） | 对比文件公开的Rsk绝对值范围为0.01~0.5，而目标专利要求Rsk>0.5且<5，两者范围完全不重叠且方向不同（对比文件强调绝对值小，目标专利要求正值且大于0.5）。本领域技术人员不能毫无疑义地从对比文件得出该技术特征，也无法合理推断出Rsk>0.5。因此C未被直接或隐含公开。 |
| D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度《未公开》 | [2]“平均傾斜角度（θａ）が０．３～０．６°であることを特徴とする”以及“θａは、０．５～２．０°が好適な範囲である。”（翻译：平均倾斜角θa为0.3~0.6°，优选0.5~2.0°） | 对比文件公开的平均倾斜角下限为0.3°，远大于目标专利的上限0.2°，两者范围不重叠。本领域技术人员无法从对比文件得出0.01~0.2°的倾斜角，也无法合理推断。因此D未被公开。 |
| E：其中，所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒《直接公开》 | [2]“上記防眩層は、バインダー樹脂を含有する。”以及“上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。”和“上記防眩剤としては特に限定されず、無機系材料からなるもの、有機系材料からなるもの等を使用することができる。上記有機系材料からなる防眩剤としては、例えば、プラスチックビーズが挙げられる。上記無機系材料からなる防眩剤としては、例えば、不定形シリカ、無機シリカビーズ等が挙げられる。”（翻译：防眩层含有粘合剂树脂。粘合剂树脂可列举电离辐射固化型树脂，例如具有丙烯酸酯基的化合物等。防眩剂没有特别限定，可使用无机材料或有机材料，例如塑料珠、不定形二氧化硅、无机二氧化硅珠等） | 对比文件中的防眩层（硬涂层）明确包含粘合剂树脂（可光聚合的电离辐射固化型树脂）和分散的防眩剂（相当于有机或无机微粒）。因此技术特征E被直接公开。 |
| F：其中，所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm《隐含公开》 | [2]“不定形シリカ（平均粒径１μｍ、表面処理品）”和“上記内部散乱粒子の平均粒径は、１～２０μｍであることが好ましい。より好ましい下限は１．５μｍ、より好ましい上限は５μｍである。”（翻译：不定形二氧化硅（平均粒径1μm）；内部散射粒子的平均粒径优选1~20μm，更优选下限1.5μm、上限5μm） | 对比文件公开了防眩剂（不定形二氧化硅）平均粒径1μm，内部散射粒子平均粒径优选1.5~5μm。这些具体值均落在1~5μm范围内。本领域技术人员可以合理推断出可以使用粒径1~5μm的微粒，因此该特征被隐含公开。 |
| G：其中，所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm《直接公开》 | [2]“上記防眩層は、単層構造であることが好ましく、その層厚み（乾燥時）は、２～１５μｍであることが好ましい。”以及实施例1中“形成した防眩層の総厚は約８μｍであった。”（翻译：防眩层优选单层结构，其层厚（干燥时）优选2~15μm。实施例1中形成的防眩层总厚约8μm） | 对比文件公开的防眩层厚度范围2~15μm包含5~10μm，且具体实施例为8μm，直接落在5~10μm内。因此技术特征G被直接公开。 |
| H：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果《直接公开》 | [2]“Ｚｙｇｏ社製白色干渉式光学顕微鏡ＮｅｗＶｉｅｗ６３００型を用い、以下の条件で光学積層体表面の尖度（Ｒｋｕ）及び歪度（Ｒｓｋ）を測定した。”以及“平均傾斜角度（θａ）は、ＩＳＯ−４２８８−１９８５に記載された粗さ測定法により測定した。”（翻译：使用Zygo公司制造的白色干涉式光学显微镜NewView6300型测量Rku和Rsk；平均倾斜角θa根据ISO-4288-1985粗糙度测量法测定） | 对比文件明确使用非接触式光学轮廓仪（白色干涉显微镜）测量Rsk和倾斜角，即3D光学轮廓仪。因此技术特征H被直接公开。 |
| I：其中，所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％《未公开》 | 对比文件全文未提及反射率的具体数值。 | 对比文件没有公开任何关于反射率的数据或范围，本领域技术人员也无法从对比文件的内容合理推断出反射率小于4%。因此I未被公开。 |
| J：其中，所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％《未公开》 | [2]“上記光学積層体は、内部ヘイズ値が０～７０％以下であることが好ましい。”（翻译：光学积层体的内部雾度值优选为0~70%以下） | 对比文件公开的内部雾度范围极宽（0~70%），并未特别教导或启示内部雾度在0~10%之间，也没有任何实施例指向该范围。本领域技术人员不能从对比文件直接得到或合理推断出内部雾度大于0且小于10%的技术特征。因此J未被公开。 |
| K：其中，所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％《直接公开》 | [2]“表面ヘイズが０．２～５％であることを特徴とする”（翻译：表面雾度为0.2~5%） | 对比文件公开的表面雾度（即目标专利的外部雾度）范围为0.2~5%，该范围包含0.2~0.5%这一子范围，而目标专利要求的外部雾度大于0且小于0.5%包含0.2~0.5%的情况。因此本领域技术人员可以直接得到外部雾度在0.2~0.5%的技术方案，即该特征被直接公开。 |
| L：其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒《未公开》 | [2]“上記防眩剤の含有量としては、防眩層を形成する際に使用される防眩層用組成物の固形分１００質量部に対して２～１０質量部であることが好ましい。”和“上記内部散乱粒子の含有量は、防眩層を形成する際に使用される防眩層用組成物の固形分１００質量部に対して０．５～２０質量部であることが好ましい。”（翻译：防眩剂含量，相对于防眩层用组合物固形分100质量份，优选2~10质量份；内部散射粒子含量，相对于固形分100质量份，优选0.5~20质量份） | 对比文件中的含量是相对于固形分总量，而非相对于可光聚合化合物的(共)聚合物。目标专利的基准是“可光聚合化合物的(共)聚合物”，对比文件没有给出基于该基准的含量范围，且无法直接换算得出。本领域技术人员不能毫无疑义地确定该特征，也不能合理推断。因此L未被公开。 |
| M：其中，基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子《未公开》 | 对比文件全文未提及直径为1nm至50nm的无机纳米粒子，也未提及基于微粒总重量的含量比例。 | 对比文件完全没有公开任何关于小尺寸无机纳米粒子（1~50nm）及其特定含量的内容。因此M未被公开。 |
| N：其中，所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子《未公开》 | 对比文件全文未提及直径大于50nm且120nm以下的无机纳米粒子。 | 对比文件没有公开该尺寸范围的无机纳米粒子。因此N未被公开。 |
| O：其中，所述低折射率层包含：粘合剂树脂《直接公开》 | [2]“低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。”（翻译：低折射率层可由含有二氧化硅或氟化镁的材料、氟系材料、含有二氧化硅或氟化镁的氟系材料、二氧化硅或氟化镁的薄膜等构成） | 对比文件中的低折射率层材料包含树脂（如氟系材料），因此必然包含粘合剂树脂。故技术特征O被直接公开。 |
| P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物《未公开》 | 对比文件全文未提及聚倍半硅氧烷（POSS）及其与氟系化合物的交联聚合物。 | 对比文件低折射率层的粘合剂树脂中完全没有公开或暗示聚倍半硅氧烷的存在。因此技术特征P未被公开。 |
| Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒《直接公开》 | [2]“低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。”以及“空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、…シリカ微粒子を挙げることができる。”（翻译：低折射率层中，优选使用“具有空隙的微粒”作为低折射率剂。作为具有空隙的无机系微粒，例如可列举二氧化硅微粒） | 对比文件明确公开低折射率层中含有分散的无机微粒（如中空二氧化硅微粒）。因此技术特征Q被直接公开。 |
| R：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团《未公开》 | 对比文件全文未公开聚倍半硅氧烷及其取代官能团。 | 由于对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此其上的反应性官能团自然也未被公开。故R未被公开。 |
| S：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代《未公开》 | 对比文件全文未公开聚倍半硅氧烷及其非反应性官能团。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此S未被公开。 |
| T：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷《未公开》 | 对比文件全文未公开任何类型的聚倍半硅氧烷。 | 对比文件未公开笼形POSS，故T未被公开。 |
| U：其中，所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代《未公开》 | 对比文件全文未公开笼形POSS及其取代情况。 | 对比文件未公开笼形POSS，故U未被公开。 |
| V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代《未公开》 | 对比文件全文未公开笼形POSS及其取代情况。 | 对比文件未公开笼形POSS，故V未被公开。 |
| W：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上《未公开》 | 对比文件全文未公开聚倍半硅氧烷及其官能团比例。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，故W未被公开。 |
| X：其中，所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物《直接公开》 | [2]“上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。…多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物…等を挙げることができる。”（翻译：电离辐射固化型树脂可列举具有丙烯酸酯基等的1个或2个以上不饱和键的化合物…多官能化合物与（甲基）丙烯酸酯的反应产物等） | 对比文件明确公开了可光聚合的化合物包含具有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体/低聚物，因此技术特征X被直接公开。 |
| Y：其中，所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种《直接公开》 | [2]“フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。…（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート…等。”（翻译：作为具有电离辐射固化性基团的含氟聚合性化合物，可广泛使用具有烯属不饱和键的含氟单体。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的化合物，如2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯等） | 对比文件公开了含氟化合物具有(甲基)丙烯酸酯基等光反应性官能团，因此技术特征Y被直接公开。 |
| Z：其中，所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子《直接公开》 | [2]“「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。”以及“空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、…シリカ微粒子を挙げることができる。”（翻译：“具有空隙的微粒”的平均粒径为5nm以上300nm以下，优选下限8nm以上、上限100nm以下，更优选下限10nm以上、上限80nm以下。作为具有空隙的无机微粒，例如可列举二氧化硅微粒） | 对比文件明确公开了中空二氧化硅微粒（空隙微粒），其平均粒径范围包含10~100nm（尤其更优选10~80nm）。因此技术特征Z被直接公开。 |
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