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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
包括: 1)在基板上形成第一光敏材料层
B
2)通过使刻有线形图案的透明光掩模与所述第一光敏材料层的上表面接触形成第一光敏材料图案层
C
3)在具有所述第一光敏材料图案层的所述基板上形成第二光敏材料层
D
4)使刻有所述线形图案的所述透明光掩模与所述第二光敏材料层的上表面接触,使得所述第一光敏材料图案层的线形图案与所述透明光掩模的所述线形图案交叉而在所述基板上形成第二光敏材料图案层
E
5)蚀刻所述基板上未形成所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层的部分
F
6)通过去除所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层制造具有凸出网格图案的母模
G
7)在所述母模上形成透明树脂层
H
8)从所述母模上去除所述透明树脂层。
权利要求 2
I
其中,步骤1)中的所述基板包括配置在其一个表面上的导电层,以及步骤5)是通过蚀刻所述导电层上未形成所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层的部分来制造导电网格图案的步骤。
权利要求 3
J
还包括: 在步骤6)之后,蚀刻所述基板上未形成所述导电网格图案的部分
K
去除所述导电网格图案。
权利要求 4
L
还包括: 在步骤4)之后,在具有所述第一光敏材料图案层和所述第二光敏材料图案层的所述基板上形成第三光敏材料层
M
在所述基板上形成第三光敏材料图案层。
权利要求 5
N
所述透明光掩模具有线宽为 100nm以上900nm以下的凹入网格图案。
权利要求 6
O
其中,所述凹入网格图案的深度是50nm以上10μm以下。
权利要求 7
P
其中,所述凹入网格图案的间距是2μm以上500μm以下。
权利要求 8
Q
其中,所述透明光掩模包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)类聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚氨酯丙烯酸酯(PUA)、聚苯乙烯(PS)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯醇(PVA)、环烯烃共聚物(COP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚乙烯醇缩丁醛(PVB)或它们的共聚物中的至少一种。
权利要求 9
R
还包括:不透明图案层,所述不透明图案层配置在刻有所述凹入网格图案的所述透明光掩模的表面上。
权利要求 10
S
其中,所述不透明图案层的图案是路由器图案。
权利要求 11
T
其中,所述不透明图案层包括金属或碳类材料。
权利要求 12
U
包括:中空圆柱形基板
V
配置在所述基板的外周面上的包覆层,所述包覆层具有线宽为100nm以上900nm以下的凹入网格图案
W
配置在所述圆柱形基板内部的紫外灯。