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对比文件列表
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2026-02-06 17:45
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发明公开_KR1020130040143A 도전성 회로 형성 방법_+++E_j_p_q+++.docx
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发明申请_US20150035162A1 INDUCTIVE DEVICE THAT INCLUDES CONDUCTIVE VIA AND METAL LAYER_+++A_B_C_E_H_d_f_g_j_k_l_m_n_o_p_q+++.docx
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发明申请_WO2016017511A1 電子部品及びその製造方法_+++A_B_C_E_F_J+++.docx
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发明授权_CN102157513B 薄膜表面安装部件_+++A_B_C_E_F_H_J_d_g_i_k_l_m_n_o_p_q_r_s_t+++.docx
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发明授权_CN102647167B 分层带通滤波器_+++A_B_D_H_J_K_L_M_N_O_P_c_f_q+++.docx
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发明专利_JP2002344275A Composite lc filter and composite lc filter component_+++A_D_G_H_J_P_Q_b_c_d_f_k_l_m_n_o+++.docx
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发明专利_JP2013138162A Wiring board with built-in coil_+++B_C_E_J_a_f_h_p_q+++.docx
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发明专利_JP2003008385A Composite lc filter circuit and composite lc filter component_+++A_B_C_D_G_H_J_P_Q_R_S_T_f+++.docx

对比文件的名称:发明专利_JP2003008385A Composite lc filter circuit and composite lc filter component

目标专利的名称:双侧电路

本次调用的模型名称:DeepSeek最新版本模型

作为资深专利代理师,我将根据目标专利说明书对权利要求技术特征的解释,与对比文件进行严谨的比对分析。以下是特征比对表格及详细论述:

## 特征比对表格 ##

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
**技术特征A:绝缘体,具有第一表面、第二表面和外围《直接公开》**【0020】“複合型LCフィルタ部品10Aは、各フィルタを、絶縁体シート11を積み重ねてなる積層体内に配置している。”【0023】“各シート11は積み重ねられ、一体的に焼成されることにより、図3に示すように積層体40とされる。”对比文件明确公开了“积层体40”,该积层体由多个绝缘体层堆叠而成(见【0020】、【0023】)。作为一个三维实体,积层体必然具有第一表面(例如顶面)、第二表面(例如底面)以及连接这两个表面的外围(侧面)。本领域技术人员能够毫无疑义地理解,任何三维物体都具有表面和外围。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征B:电路元件的第一子集,布置在所述第一表面上《直接公开》**【0021】“絶縁体シート11の表面に設けたコンデンサパターン17は、...コンデンサC1,C2を形成している。引出しパターン19は、...インダクタL1に電気的に接続している。”【0022】“絶縁体シート11の表面にそれぞれ設けたコンデンサパターン20,21は、...コンデンサC3,C4を形成している。引出しパターン24,25は、...インダクタL2,L3に電気的に接続している。”对比文件详细描述了在绝缘体层的“表面”上设置(“設けた”)电容器图案和引出图案以形成电容器(C1-C4)和连接至电感器(L1-L3)(见【0021】、【0022】)。这些电路元件(电容器和电感器)是整体电路的一部分,可以视为“电路元件的第一子集”。它们被布置在绝缘体层(最终构成积层体的一部分)的表面上。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征C:电路元件的第二子集,布置在所述第二表面上《直接公开》**【0021】“コンデンサパターン28は、コンデンサパターン26,27,29にそれぞれ対向してコンデンサC5,C6,C7を形成している。コンデンサパターン29は、...インダクタL4に電気的に接続している。”【0024】“出力端子4は、コンデンサパターン27に電気的に接続されている。”对比文件描述了在积层体内部不同层上形成其他电路元件,例如电容器C5-C7及与之连接的电感器L4(见【0021】)。这些元件同样构成整体电路的一部分,可视为“电路元件的第二子集”。在多层结构中,这些元件必然布置在某一绝缘体层(可以是与布置第一子集不同的层)的表面上,该表面可对应于积层体的“第二表面”或内部某一层的表面。本领域技术人员能够理解,多层结构的电路元件分布在不同的层表面上。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征D:至少一个导电侧壁,布置在所述外围上,其中所述至少一个导电侧壁将所述电路元件的第一子集电耦合至所述电路元件的第二子集,其中所述电路元件的第一子集包括第一电容器,并且其中所述第一电容器包括与所述绝缘体的所述第一表面接触的第一内部导电层、与所述第一内部导电层接触的第一介电层、以及与所述第一介电层接触的第一中间导电层。《部分直接公开,部分未公开》****关于导电侧壁及耦合:**【0023】“積層体40の手前側の側面には共通入力端子1が形成され、奥側の側面には出力端子3及びグランド端子Gが形成されている。積層体40の左の端面には出力端子2が形成され、右の端面には出力端子4が形成されている。”【0024】“共通入力端子1は、コンデンサパターン18,26、コンデンサパターン20及び引出しパターン19,24に電気的に接続されている。出力端子2は、コンデンサパターン17及びインダクタL1のコイル導体パターンに電気的に接続されている。出力端子3は、コンデンサパターン21及び引出しパターン25に電気的に接続されている。出力端子4は、コンデンサパターン27に電気的に接続されている。”**关于电容器结构:**【0020】“絶縁体シート11は、セラミックの誘電体粉末や磁性体粉末を結合剤等と一緒に混練したものをシート状にしたものである。”【0021】“絶縁体シート11の表面に設けたコンデンサパターン17は、絶縁体シート11を挟んでコンデンサパターン16,18に対向し、コンデンサC1,C2を形成している。”**公开性论述:** 1. **“至少一个导电侧壁,布置在所述外围上”及“将所述电路元件的第一子集电耦合至所述电路元件的第二子集”部分《直接公开》**:对比文件明确公开在积层体40的“侧面”(“側面”)和“端面”(“端面”)上形成端子(1, 2, 3, 4, G)(见【0023】),这些侧面和端面即是积层体的外围。这些端子作为导电体,起到了“导电侧壁”的作用。并且,这些端子(如共通输入端子1)电连接至分布在积层体不同层/位置的电路元件(例如连接至电容图案18、26、20及引出图案19、24)(见【0024】),从而在物理上和电气上实现了布置在不同表面(层)上的电路元件子集之间的互连耦合。因此,这部分技术特征被直接公开。<br>2. **“其中所述第一电容器包括与所述绝缘体的所述第一表面接触的第一内部导电层、与所述第一内部导电层接触的第一介电层、以及与所述第一介电层接触的第一中间导电层”部分《未公开》**:对比文件描述了电容器(如C1)由设置在绝缘体片(“絶縁体シート11”)表面的电容图案(如17)与夹着该绝缘体片相对的另一电容图案(如16,18)形成(见【0021】)。绝缘体片本身由陶瓷或磁性粉末制成,充当介电体(见【0020】)。该结构是“电极-介电体(绝缘体片)-电极”的简单夹层结构。目标专利明确限定了第一电容器的特定层叠结构:包括与绝缘体第一表面“接触”的“第一内部导电层”、与该内部导电层“接触”的“第一介电层”、以及与该介电层“接触”的“第一中间导电层”。这描述了一种在绝缘体表面之上构建的、具有独立介电层和多个导电层的电容器结构,而非利用绝缘体基板本身作为唯一介质的简单平行板电容器。对比文件未公开这种在绝缘体表面上构建的、具有特定顺序的“导电层-介电层-导电层”三层结构。因此,该部分技术特征未被对比文件公开。
**技术特征E:所述绝缘体包括玻璃《未公开》**【0020】“絶縁体シート11は、セラミックの誘電体粉末や磁性体粉末を結合剤等と一緒に混練したものをシート状にしたものである。”对比文件明确记载绝缘体片(“絶縁体シート”)的材料是“陶瓷的介电粉末或磁性粉末”(“セラミックの誘電体粉末や磁性体粉末”),并未提及玻璃材料。目标专利说明书【0038】明确将玻璃作为绝缘体的一种示例材料。对比文件公开的材料(陶瓷/磁性材料)与玻璃是不同的材料。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征F:所述绝缘体的厚度大于所述电路元件的第一子集的厚度并大于所述电路元件的第二子集的厚度《隐含公开》**【0020】“各絶縁体シート11のシート厚は所定の寸法に設定されている。”【0021】【0022】描述了在绝缘体片表面设置电容图案、引出图案等。对比文件描述了具有预定厚度的绝缘体片(见【0020】),并在其表面设置电路元件图案(见【0021】、【0022】)。本领域技术人员公知,在多层陶瓷器件等制造工艺中,作为基板的绝缘体层(片)的厚度通常设计为能够支撑和隔离其上或其间形成的电路图案(如导体图案),并且绝缘体层的厚度一般会大于其上印刷或形成的单层金属导体图案(电路元件)的厚度,以确保结构强度和电气隔离。虽然对比文件未明确比较厚度,但根据本领域的常规技术知识,可以合理推断出绝缘体(层)的厚度大于设置在其表面的电路元件图案(子集)的厚度。因此,该技术特征被对比文件隐含公开。
**技术特征G:所述电路元件的第一子集被配置为对第一频带滤波,并且所述电路元件的第二子集被配置为对第二频带滤波,所述第二频带高于所述第一频带《直接公开》**【0009】“低域通過フィルタLPF1は、...その通過帯域はf1に設定されている。高域通過フィルタHPF1は、...その通過帯域はf3(>f1)に設定されている。”【0015】例示了具体频率:800MHz (f1), 1.5GHz (f2), 1.8-1.9GHz (f3)。对比文件明确公开了其复合LC滤波电路包含低通滤波器(LPF1)和高通滤波器(HPF1),并设定了各自的通带频率f1和f3,且f3 > f1(见【0009】)。结合【0015】的实例,低通滤波器处理较低频带(如800MHz),高通滤波器处理较高频带(如1.8-1.9GHz)。这些滤波器由电路元件(电感、电容)构成,分别对应于“电路元件的第一子集”和“电路元件的第二子集”。因此,该滤波配置的技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征H:所述电路元件的第一子集还包括第一电感器《直接公开》**【0010】“2次の低域通過フィルタLPF1は、インダクタL1及びコンデンサC1,C2からなる。”【0021】“引出しパターン19は、ビアホール30を介して渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL1に電気的に接続している。”对比文件明确指出低通滤波器LPF1(可对应于电路元件的第一子集)包含电感器L1(见【0010】),并且该电感器由螺旋线圈导体图案构成(见【0021】)。因此,“电路元件的第一子集包括第一电感器”被直接公开。
**技术特征I:所述电路元件的第二子集包括具有比所述第一电感器更低电感的第二电感器,以及具有比所述第一电容器更低电容的第二电容器《未公开》**对比文件公开了多个电感器(L1, L2, L3, L4)和多个电容器(C1-C7)。对比文件虽然公开了电路包含多个电感器和电容器,但并未在任何地方描述或暗示这些电感器之间电感值的相对大小关系(例如,第二子集中的电感器比第一子集中的电感器电感更低),也未描述电容器之间电容值的相对大小关系(例如,第二子集中的电容器比第一子集中的电容器电容更低)。目标专利说明书【0030】提及了这种参数关系,但对比文件未提供任何相关信息。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征J:所述第一电感器是第一螺旋电感器且所述第二电感器是第二螺旋电感器《直接公开》**【0021】“渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL1...”【0021】“渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL4...”【0022】“渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL2,L3...”对比文件多次明确描述电感器(L1, L2, L3, L4)是由“螺旋形状的线圈导体图案”(“渦巻形状のコイル導体パターン”)构成(见【0021】、【0022】),即螺旋电感器。因此,无论是第一子集还是第二子集中的电感器,都是螺旋电感器。该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征K:所述第一电感器包括与所述第一中间绝缘体接触的第一内部导电子层、与所述第一内部导电子层接触的第一绝缘子层、以及与所述第一绝缘子层接触的第一外部导电子层《未公开》**【0021】【0022】描述了电感器由螺旋线圈导体图案形成。【0020】描述了绝缘体片材料。对比文件仅描述了电感器由螺旋线圈导体图案构成,但未描述该电感器具有如目标专利所限定的特定层状结构,即包括“内部导电子层”、“绝缘子层”、“外部导电子层”这三层紧密接触的叠层结构。目标专利说明书结合图4描述了这种用于构建螺旋电感器的多层结构(如【0049】提及外部导电层可包括三个子层)。对比文件未公开此种具体构造。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征L:以及所述第二电感器包括与所述第二中间绝缘体接触的第二内部导电子层、与所述第二内部导电子层接触的第二绝缘子层、以及与所述第二绝缘子层接触的第二外部导电子层《未公开》**【0021】【0022】描述了电感器由螺旋线圈导体图案形成。同理,对比文件未描述第二电感器具有上述特定的三层叠层结构。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征M:所述第二电容器包括与所述绝缘体的所述第二表面接触的第二内部导电层、与所述第二内部导电层接触的第二介电层、以及与所述第二介电层接触的第二中间导电层《未公开》**【0021】描述了电容器由夹着绝缘体片的电容图案形成。对比文件描述的电容器结构是简单的“电极-绝缘体基板-电极”形式,并未公开如目标专利所限定的、在绝缘体表面构建的、具有“内部导电层-介电层-中间导电层”这种特定顺序的三层结构。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征N:所述第一电感器包括与所述第一中间绝缘体接触的第一内部导电子层、与所述第一内部导电子层接触的第一绝缘子层、以及与所述第一绝缘子层接触的第一外部导电子层《未公开》**【0021】【0022】描述了电感器由螺旋线圈导体图案形成。此特征与技术特征K实质相同。对比文件未公开该特定层状结构。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征O:以及所述第二电感器包括与所述第二中间绝缘体接触的第二内部导电子层、与所述第二内部导电子层接触的第二绝缘子层、以及与所述第二绝缘子层接触的第二外部导电子层《未公开》**【0021】【0022】描述了电感器由螺旋线圈导体图案形成。此特征与技术特征L实质相同。对比文件未公开该特定层状结构。因此,该技术特征未被对比文件公开。
**技术特征P:一个或多个第一过孔,被布置在所述第一中间绝缘体中并且被配置用于将所述第一电感器耦合至所述第一电容器《直接公开》**【0021】“引出しパターン19は、ビアホール30を介して渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL1に電気的に接続している。”【0022】“引出しパターン24,25は、それぞれビアホール30を介して渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL2,L3に電気的に接続している。”对比文件明确公开了“ビアホール”(via hole,过孔)30,用于将引出图案(连接至电容器等元件)与螺旋线圈导体图案形成的电感器(L1, L2, L3)电连接(见【0021】、【0022】)。这些过孔布置在由绝缘体片堆叠形成的积层体(即中间绝缘体)中,其作用正是将电感器耦合至电路中的其他部分(包括电容器)。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征Q:以及一个或多个第二过孔,被布置在所述第二中间绝缘体中并且被配置用于将所述第二电感器耦合至所述第二电容器《直接公开》**【0021】“コンデンサパターン29は、ビアホール30を介して渦巻形状のコイル導体パターンからなるインダクタL4に電気的に接続している。”同理,对比文件公开了通过过孔30将电容图案29(属于电容器C7)与电感器L4电连接(见【0021】)。这属于将第二子集中的电感器(L4)耦合至第二子集中的电容器(C7)。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
**技术特征R:所述至少一个导电侧壁包括一个或多个电路接触表面,所述一个或多个电路接触表面包括以下项中的一个或多个:低频带接触表面,电耦合至所述电路元件的第一子集《直接公开》**【0023】“積層体40の左の端面には出力端子2が形成され...”【0024】“出力端子2は、コンデンサパターン17及びインダクタL1のコイル導体パターンに電気的に接続されている。”【0009】低通滤波器LPF1连接到输出端子2,其通带为f1(低频带)。对比文件公开了形成在积层体40端面(外围)上的输出端子2(见【0023】),该端子电连接至构成低通滤波器LPF1(处理低频带f1)的电路元件(电容图案17和电感器L1)(见【0024】、【0009】)。因此,输出端子2起到了“低频带接触表面”的作用,该技术特征被直接公开。
**技术特征S:高频带接触表面,电耦合至所述电路元件的第二子集《直接公开》**【0023】“...右の端面には出力端子4が形成されている。”【0024】“出力端子4は、コンデンサパターン27に電気的に接続されている。”【0009】高通滤波器HPF1连接到输出端子4,其通带为f3(高频带,>f1)。对比文件公开了形成在积层体40另一端面(外围)上的输出端子4(见【0023】),该端子电连接至构成高通滤波器HPF1(处理高频带f3)的电路元件(电容图案27)(见【0024】、【0009】)。因此,输出端子4起到了“高频带接触表面”的作用,该技术特征被直接公开。
**技术特征T:以及天线接触表面,被配置用于将所述电路元件的第一子集和所述电路元件的第二子集中的一个或多个电耦合至天线《直接公开》**【0023】“積層体40の手前側の側面には共通入力端子1が形成され...”【0024】“共通入力端子1は、コンデンサパターン18,26、コンデンサパターン20及び引出しパターン19,24に電気的に接続されている。”【0015】“共通入力端子1にアンテナを接続し...”对比文件公开了形成在积层体40侧面(外围)上的共通输入端子1(见【0023】),该端子电连接至多个电路元件(包括属于低通和高通滤波器的元件)(见【0024】)。并且,在应用描述中明确记载了将天线连接至该共通输入端子1(见【0015】)。因此,共通输入端子1起到了“天线接触表面”的作用,该技术特征被直接公开。

## 输出代码 ##

根据上述分析,对比文件直接公开了技术特征A、B、C、D(部分)、G、H、J、P、Q、R、S、T;隐含公开了技术特征F。

<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<D>>><<<G>>><<<H>>><<<J>>><<<P>>><<<Q>>><<<R>>><<<S>>><<<T>>>

<<<f>>>

权利要求与技术特征
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