2006-10-12_JP2006275535A_发明专利_JP2006275535A Microprism chip for surface plasmon resonance sensor, sensor chip using it and surface plasmon resonance sensor_+++A_B_G_K_S+++.docx

**对比文件名称:** 2006-10-12_JP2006275535A_发明专利_JP2006275535A Microprism chip for surface plasmon resonance sensor, sensor chip using it and surface plasmon resonance sensor

**目标专利名称:** 1268用于在小样本体积中进行光学检测的载体CN101990634B

**本次调用的模型名称:** GPT-4 (假设)

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(翻译)公开性论述
特征A:载体(11),其中所述载体包括在其表面(12)上的光学结构(50) **《直接公开》**对比文件说明书第[2]段(关于图2、3的描述):“传感器用芯片10是树脂基板,具有两个平行的主面,第一主面具有多个截面为三角形的三角柱状突起部11,以预定间隔的平坦部12彼此平行设置,形成突起列;第二主面是平面,可设置金属膜。”对比文件公开了树脂基板(相当于载体)在其第一主面上具有多个突起部(相当于光学结构)。该结构虽然具体功能与目标专利不同,但结构特征“载体包括在其表面上的光学结构”已被直接公开,本领域技术人员能毫无疑义地得出该技术特征。
特征B:所述光学结构(50)具有至少一个激励刻面(53)和至少一个收集刻面(54) **《直接公开》**对比文件说明书第[2]段(关于光路):“入射光从第一主面的突起部11的斜面P入射,传播通过树脂基板4,在第二主面的金属膜5上反射,反射光从树脂基板内从第一主面的突起部11的斜面Q出射。”对比文件公开了每个突起部具有两个相对倾斜的斜面,分别用于入射光(斜面P,相当于激励刻面)和出射光(斜面Q,相当于收集刻面)。因此“至少一个激励刻面和至少一个收集刻面”被直接公开。
特征C:该至少一个激励刻面(53)和至少一个收集刻面(54)基本上在中间相遇并且形成凹槽 **《未公开》**对比文件没有公开凹槽结构;其突起部是凸起的,两个斜面在顶部相遇形成棱镜尖端,而非凹槽。对比文件的光学结构由凸起的三角柱状突起部组成,两个斜面在顶部相遇,形成凸起的棱镜,没有形成凹槽。目标专利要求刻面在中间相遇形成凹槽(V形槽),对比文件未公开该特征,本领域技术人员不能直接或隐含地得出凹槽结构。
特征D:所述光学结构(50)能够在所述激励刻面(54)处将输入光束(L1)折射到所述邻近样本室(2)中 **《未公开》**对比文件没有样本室;其光路是入射光从斜面折射进入基板内部,在第二主面的金属膜上反射,而非折射到基板外部的空间。对比文件的光学结构用于将入射光折射到基板内部,而不是折射到载体外部的邻近样本室。目标专利的“样本室”是载体外部空间,对比文件未公开任何类似结构或功能。
特征E:撞击到所述样本(1,1’)上 **《未公开》**对比文件的光在金属膜上反射,与固定在金属膜上的测量物通过表面等离子体共振相互作用,并非直接照射到悬浮在样本室中的样本。目标专利的样本位于样本室中,输入光束折射到样本室后直接撞击样本。对比文件没有样本室,其光与测量物的相互作用是通过金属膜反射时的倏逝波等,并非直接折射撞击,因此未公开。
特征F:能够同时从所述样本室(2)收集在所述收集刻面(54)处折射的输出光束(L2,L2’) **《未公开》**对比文件收集的是从金属膜反射的光,从出射斜面折射出去,而不是从样本室收集的光。对比文件没有样本室,其输出光束是反射光,不是从样本室中收集的。目标专利的输出光束来自样本室,经过样本室后再次被折射,对比文件未公开该特征。
特征G:其中所述输出光束包括源于所述输入光束(L1)的光 **《直接公开》**同特征B引用:反射光(输出光束)源于入射光。对比文件明确公开了从出射斜面输出的反射光束来源于入射光束,因此直接公开了“输出光束包括源于输入光束的光”。
特征H:其特征在于所收集的作为所述输出光束(L2,L2’)的所述光已行经所述样本室(2)小于1000μm **《未公开》**对比文件没有样本室,光在基板内部传播,距离未限定。对比文件未公开样本室,也未公开光在样本室中传播的距离,因此该特征未被公开。
特征I:优选小于100μm **《未公开》**同特征H。对比文件未公开任何距离数值,且无样本室,故未公开。
特征J:最优选小于10μm **《未公开》**同特征H。对比文件未公开任何距离数值,且无样本室,故未公开。
特征K:其特征在于所述光学结构(50)包括至少一个激励刻面(53)和至少一个对应的收集刻面(54) **《直接公开》**同特征B引用:入射斜面P和出射斜面Q对应。对比文件公开了每个突起部具有对应的入射斜面和出射斜面,即激励刻面和收集刻面一一对应,因此直接公开了“至少一个激励刻面和至少一个对应的收集刻面”。
特征L:经由所述激励刻面(53)所述输入光束(L1)的光能够发射到所述样本室(2)中 **《未公开》**同特征D。对比文件没有样本室,光未发射到外部空间,故未公开。
特征M:经由所述收集刻面(54)能够重新收集所发射的光 **《未公开》**同特征F。对比文件重新收集的是反射光,不是从样本室发射的光,故未公开。
特征N:其特征在于所述输出光束(L2)能够包括来自在所述样本室(2)中被所述输入光束(L1)激发的光致发光剂的光 **《未公开》**对比文件没有提及光致发光,其检测原理基于表面等离子体共振。对比文件不涉及光致发光检测,未公开该特征。
特征O:其特征在于所述光学结构(50)包括在所述载体(11)的所述表面(12)中的至少一个孔或者凹槽(52) **《未公开》**对比文件的光学结构是突起部,不是孔或凹槽。对比文件公开的是凸起的三角柱状突起部,没有孔或凹槽结构,因此未公开。
特征P:其中所述孔或者凹槽(52)的横截面具有两个相反倾斜的、相对刻面(53,54) **《未公开》**无凹槽,故无相关刻面。由于对比文件未公开凹槽,该特征未被公开。
特征Q:其特征在于所述横截面是三角形横截面 **《未公开》**对比文件突起为三角形,但特征Q针对凹槽横截面。对比文件没有凹槽,其突起三角形不能直接等同于凹槽的三角形横截面。目标专利明确要求凹槽的横截面为三角形,故未公开。
特征R:其特征在于所述横截面是梯形横截面 **《未公开》**对比文件无梯形结构。对比文件未公开任何梯形横截面结构,故未公开。
特征S:其特征在于所述载体(11)包括接触表面(12) **《直接公开》**对比文件说明书第[2]段:“树脂基板4具有两个平行的主面”,第一主面是与样本接触的表面。对比文件公开了树脂基板(载体)具有第一主面,该表面用于与测量物接触,因此直接公开了“载体包括接触表面”。
特征T:所述接触表面具有带有光学结构(50)的多个独立研究区域(13,13a,13b,13c) **《未公开》**对比文件仅描述了一个包含多个突起部的单一区域,没有提及多个独立的研究区域。对比文件未公开多个独立研究区域,其光学结构覆盖整个区域,故未公开。
特征U:其特征在于所述光学结构(50)包括用于样本的目标成分(1,1’)的结合部位 **《未公开》**对比文件的测量物固定在金属膜上,而非光学结构上。对比文件未在光学结构(突起部)上设置结合部位,其结合部位在金属膜上,因此未公开。

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