2007-07-26_US2007173813A_发明申请_US20070173813A1 System and method for tissue sealing_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Y_k_l+++.docx

对比文件名称:2007-07-26_US2007173813A_发明申请_US20070173813A1 System and method for tissue sealing

目标专利名称:1357具有处理设定限定器的使用RF电流的非侵入性皮肤处理装置CN107530544B

模型名称:无

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
技术特征A:RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15) 《直接公开》对比文件[0005]:“在双极电外科中,手持器械的一个电极用作有源电极,另一个用作返回电极。返回电极紧邻有源电极放置,从而在两个电极之间形成电路(例如,电外科钳)。这样,施加的电流限制在位于电极之间的身体组织。” 以及[0025]:“RF电外科能量通过电缆18从发生器2供应到钳子10,允许钳子密封组织。”对比文件公开了双极电外科系统,其中RF电流在两个电极(密封板)之间穿过组织,通过加热组织实现密封。这与目标专利中RF处理信号在RF处理电极与返回电极之间穿过皮肤内部区域进行加热的实质相同,因此直接公开。
技术特征B:阻抗测量电路(35) 《直接公开》对比文件[0036]:“传感器电路11,可包括多种感测机制(例如,组织阻抗、组织温度、输出电流和/或电压等),向控制器4提供反馈。”对比文件明确公开了传感器电路11,用于测量组织阻抗,对应于目标专利的阻抗测量电路,因此直接公开。
技术特征C:其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗 《直接公开》对比文件[0041]:“在步骤302中,向组织400施加询问脉冲。询问脉冲用于通过传感器电路11感测初始组织阻抗。” 其中密封板112和122构成电极,测量它们之间的阻抗。传感器电路测量的是两个密封板(电极)之间的组织阻抗,与目标专利测量RF处理电极与返回电极之间的皮肤阻抗实质相同,因此直接公开。
技术特征D:处理设定限定器(30) 《直接公开》对比文件[0011]:“基于初始阻抗,系统确定最佳压力、电压和能量施加持续时间。” [0042]:“微处理器5可以使用存储器6中的查找表,查找表具有针对多个初始阻抗范围的电压和持续时间值。”对比文件中的控制器4(包括微处理器)根据初始阻抗确定处理设定(电压、持续时间),执行了处理设定限定器的功能,因此直接公开。
技术特征E:其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25) 《直接公开》对比文件[0011]:“基于初始阻抗,系统确定最佳压力、电压和能量施加持续时间。” [0036]:“控制器4包括微处理器5,…控制发生器2的输出。”对比文件公开了控制器确定处理设定,且装置包括控制器,因此直接公开。
技术特征F:所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO 《直接公开》对比文件[0041]:“在步骤302中,向组织400施加询问脉冲。询问脉冲用于通过传感器电路11感测初始组织阻抗。” [0042]:“初始阻抗传输到控制器4,控制器确定最佳电压和持续时间。” [0048]:“在步骤308中,以恒定电压向组织施加电外科能量。” 测量在施加主能量之前进行。对比文件明确公开了在施加处理能量之前,通过传感器电路测量初始阻抗,并由控制器处理,因此直接公开。
技术特征G:其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD) 《未公开》对比文件[0042]:“基于初始阻抗,系统确定最佳电压和持续时间。” 未提及电极尺寸。对比文件仅根据初始阻抗确定处理参数,未公开根据电极尺寸进行确定。虽然电极尺寸可能固定,但处理设定限定器并未被编程为根据尺寸调整参数,因此该技术特征未被公开。
技术特征H:与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定 《直接公开》对比文件[0042]:“初始阻抗传输到控制器4,控制器确定最佳电压和持续时间。” [0048]:“在步骤308中,以恒定电压向组织施加电外科能量。” 控制器在测量初始阻抗后确定处理设定(包括电压),然后激活发生器。对比文件公开了控制器在测量初始阻抗后确定处理设定(包括RF电气参数如电压),然后施加能量,因此直接公开。
技术特征I:配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号 《直接公开》对比文件[0048]:“在步骤308中,以恒定电压向组织施加电外科能量。” 发生器根据确定的电压设定提供RF能量。对比文件公开了发生器根据处理设定(电压)提供RF信号,因此直接公开。
技术特征J:激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD) 《直接公开》对比文件[0048]:“在步骤308中,以恒定电压向组织施加电外科能量。” [0049]:“当预定持续时间期满时,能量施加可终止。”对比文件公开了激活发生器施加能量持续预定持续时间,因此直接公开。
技术特征K:其中所述处理持续时间(TD)与所述内部区域(15)中从期望处理结果到不期望的处理结果的过渡相关联 《隐含公开》对比文件[0011]:“基于初始阻抗,系统确定最佳压力、电压和能量施加持续时间。” 该最佳持续时间旨在实现有效密封(期望结果)而不造成过度损伤(不期望结果)。虽然对比文件未明确表述,但本领域技术人员可合理推断,所确定的最佳持续时间与从期望密封效果过渡到不期望过度损伤的时机相关联,以确保在达到期望效果时停止,因此隐含公开。
技术特征L:其中所述不期望的处理结果与所述内部区域(15)内的凝固或消融相关联 《隐含公开》对比文件[0007]:“组织密封是液化胶原等…烧灼涉及使用热破坏组织,凝固是干燥组织的过程。” 在密封中,过度能量可导致组织凝固或汽化(消融),这些是不期望的结果。本领域技术人员理解,在组织密封过程中,不期望的结果通常包括过度凝固或组织消融,且处理持续时间与避免这些结果相关,因此隐含公开。
技术特征M:其中所述RF处理电极(10)在所述RF处理电极(10)的所述接触平面中的最大尺寸小于或等于2mm 《未公开》对比文件未提及电极尺寸的具体数值或范围。对比文件未公开电极尺寸限制,且其密封板通常用于较大组织,未暗示小于2mm,因此未公开。
技术特征N:其中所述处理设定限定器(30)被编程使得所述处理设定限定器(30)根据以下公式确定所述处理设定:J=K.R.TT.PM.(1–exp(‑TD/TT)),其中:J是与期望的处理结果与不期望的处理结果之间的过渡相关联的皮肤损害发作因子 《未公开》对比文件未公开任何公式,仅使用查找表。对比文件未公开该公式,因此未公开。
技术特征O:K是常数,单位为每毫米‑毫焦耳,取决于皮肤组织的热和介电特性 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开常数K,因此未公开。
技术特征P:R是所述RF处理电极(10)在所述接触平面内的半径,单位为毫米 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开半径参数,因此未公开。
技术特征Q:TT是皮肤组织的热时间常数,单位为毫秒 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开热时间常数,因此未公开。
技术特征R:2PM是与所述RF处理信号相关联RF功率,单位为瓦特,等于VM/ZO,其中VM是所述RF处理信号的电压 《未公开》对比文件未公开此关系。对比文件未公开功率计算关系,因此未公开。
技术特征S:TD是所述处理持续时间,单位为毫秒 《未公开》对比文件未公开TD单位毫秒,且示例中持续时间为秒级(如30秒)。对比文件未公开TD为毫秒或公式,因此未公开。
技术特征T:其中K等于0.38±0.03mm-1mJ-1 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开K的具体数值,因此未公开。
技术特征U:其中TT等于40.4±4.8毫秒 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开TT的具体数值,因此未公开。
技术特征V:其中所述皮肤损害发作因子(J)是以下中的一个或多个:J=1±0.3,当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与非消融性凝固损害的发作相关联时 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开J值及其关联,因此未公开。
技术特征W:者J=1.7±0.5,当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与消融性损害的发作相关联时 《未公开》对比文件未公开。对比文件未公开J值,因此未公开。
技术特征X:其中与所述RF处理信号相关联的所述RF电气参数是以下一个或多个:IM,是所述RF处理信号的电流,单位为安培 《未公开》对比文件[0048]:“以恒定电压施加能量。” 未提及电流作为设定参数。对比文件仅公开电压作为设定参数,未公开电流,因此未公开。
技术特征Y:VM,是所述RF处理信号的电压,单位为伏特 《直接公开》对比文件[0042]:“查找表提供最佳电压值150V和持续时间30秒。” [0048]:“以恒定电压施加能量。”对比文件明确公开了电压作为RF电气参数并用于设定,因此直接公开。
技术特征Z:PM,是与所述RF处理信号相关联的功率,单位为瓦特 《未公开》对比文件未公开功率作为设定参数。对比文件未公开功率参数,因此未公开。

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权利要求与技术特征

A RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15)
B 阻抗测量电路(35)
C 其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗
D 处理设定限定器(30)
E 其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)
F 所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO
G 其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)
H 与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定
I 配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号
J 激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD)
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