**对比文件名称**：2012-04-12_US2012086302A_发明申请_US20120086302A1 STATOR CORE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME
**目标专利名称**：1546马达CN113273054B
**本次调用模型名称**：DeepSeek
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### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：其中《未公开》 | 无直接对应表述。对比文件使用“comprising”“including”等，但未出现中文“其中”一词。 | 目标专利中“其中”仅为引导后续技术特征的连接词，本身不构成技术方案。对比文件未记载相同词语，且本领域技术人员无法从其内容必然推导出该连接词的出现，故未公开。 |
| 技术特征B：关于所述轴的轴线《隐含公开》 | 引用段落[0027]：“The rotor core 28 includes a shaft hole 29 in its center…”。（中文：转子铁芯28在其中心包括轴孔29…） | 对比文件明确记载转子铁芯具有轴孔，这隐含了存在旋转轴线（即轴的轴线）。本领域技术人员可以毫无疑义地确定该定子铁芯围绕该轴线布置，故特征B被隐含公开。 |
| 技术特征C：第一角度(θ1)与第二角度(θ2)《未公开》 | 无相关内容。对比文件未定义任何角度参数，特别是θ1和θ2。 | 目标专利的第一/第二角度是相对于齿端表面中心、虚拟线和凹槽位置定义的特定角度。对比文件仅涉及在直片段上压制薄部的工艺参数（宽度、深度），未提及任何类似角度概念，故未直接或隐含公开。 |
| 技术特征D：不同《未公开》 | 无相关内容。 | 特征D依附于特征C，要求θ1与θ2不同。对比文件未公开任何角度，更未涉及角度的差异性，故未公开。 |
| 技术特征E：所述第一角度(θ1)《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未定义任何称为θ1的角度，故未公开。 |
| 技术特征F：是由将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的虚拟线(L)与形成有所述第一凹槽的一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 无相关内容。对比文件未提及“齿端表面”“虚拟线”“第一凹槽一侧”等概念。 | 目标专利的θ1通过具体的几何关系定义。对比文件未描述任何与凹槽侧边、中心线相关的角度测量方式，且其凹槽位于直片段上下表面而非齿端表面，故未公开。 |
| 技术特征G：所述第二角度(θ2)《未公开》 | 无相关内容。 | 与特征E同理，未公开。 |
| 技术特征H：是由所述虚拟线(L)与形成有所述第二凹槽的另一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 无相关内容。 | 与特征F同理，未公开。 |
| 技术特征I：其中《未公开》 | 无直接对应表述。 | 同特征A，对比文件未出现“其中”一词，也未必然隐含该连接词，故未公开。 |
| 技术特征J：所述第一凹槽和所述第二凹槽《未公开》 | 引用段落[0025]：“…the thin section 24 includes grooves 25, 26, each having a rectangular cross-section, in upper and lower sides thereof…”（中文：薄部24包括在上侧和下侧的矩形截面槽25、26…） | 目标专利的第一凹槽和第二凹槽是形成在齿的内表面（径向向内表面）上，沿周向间隔布置，用于减小齿槽扭矩。对比文件的槽25、26形成在直片段的厚度方向上下表面，用于形成薄部以使磁极片径向延伸，其位置、功能和结构完全不同。本领域技术人员无法从对比文件的上下槽合理推断出目标专利的凹槽布置，故未公开。 |
| 技术特征K：形成在所述轴的轴向方向上《未公开》 | 引用段落[0025]及图2(A)、2(B)：薄部24形成在直片段20上，直片段20沿径向延伸。 | 对比文件的槽25、26沿直片段长度方向（径向）延伸，而目标专利的凹槽沿轴向（与轴线平行）延伸。二者方向正交，作用不同（目标专利的轴向凹槽影响轴向磁导分布）。对比文件未提及或暗示凹槽可沿轴向形成，故未公开。 |
| 技术特征L：其中《未公开》 | 无直接对应表述。 | 同特征A，未公开。 |
| 技术特征M：关于所述轴的轴线《隐含公开》 | 引用段落[0027]：“…the rotor core 28 to rotate inside the stator core 10.”（中文：转子铁芯28在定子铁芯10内旋转） | 转子在定子内旋转必然存在旋转轴线。本领域技术人员可以合理推断定子铁芯的结构关于该轴线对称或参考该轴线，故特征M被隐含公开。 |
| 技术特征N：由所述齿端表面的一侧与形成有所述第二凹槽的一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 无相关内容。对比文件未定义齿端表面的一侧、第二凹槽的一侧等几何概念。 | 目标专利的第四角度θ4通过复杂的几何关系定义，对比文件未进行任何类似角度定义，且其凹槽位置与齿端表面无关，故未公开。 |
| 技术特征O：第四角度(θ4)《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未定义θ4。 |
| 技术特征P：是所述第二角度(θ2)的两倍《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开θ2，故无法公开θ4与θ2的倍数关系。 |
| 技术特征Q：其中《未公开》 | 无直接对应表述。 | 同特征A，未公开。 |
| 技术特征R：从将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的所述虚拟线(L)到所述第二凹槽的另一侧的第二距离(D2)《未公开》 | 无相关内容。对比文件仅提及槽的深度b和宽度a，未定义与齿中心或虚拟线相关的距离。 | 目标专利定义特定距离D2作为设计参考。对比文件未提及任何类似距离参数，也未描述凹槽相对于齿中心的位置，故未公开。 |
| 技术特征S：是所述第二凹槽的深度(D)的1.578倍《未公开》 | 无相关内容。对比文件记载深度b为材料厚度的2-20%，宽度a为厚度的1-6倍。 | 目标专利的D2与深度D的比值为1.578，而对比文件仅给出厚度百分比，且其深度与目标专利的凹槽深度（径向方向）定义不同，完全没有公开该具体比值。 |
| 技术特征T：（空白） | — | 无实质内容，不判断。 |
| 技术特征U：所述第一角度(θ1)与所述第二角度(θ2)之间的差《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开θ1和θ2，故未公开两者之差。 |
| 技术特征V：在所述第二角度(θ2)的10％以内《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开θ2及与θ1的差量范围，故未公开。 |
| 技术特征W：其中《未公开》 | 无直接对应表述。 | 同特征A，未公开。 |
| 技术特征X：所述第一凹槽的深度(D)与在周向方向上的宽度(W)的比《未公开》 | 引用段落[0025]：“…a depth ‘b’ of the groove 25 (26) is 2-20% of a material thickness… and a width ‘a’ … is approximately one to six times the material thickness.”（中文：槽25（26）的深度b为材料厚度的2-20%…宽度a约为材料厚度的1-6倍） | 目标专利的凹槽深度D是径向向内凹陷的深度，宽度W是周向方向宽度，二者比值限制在0.24-0.29。对比文件的深度b和宽度a均以材料厚度为基准，且a/b范围远大于目标专利（5~300），且其凹槽位于厚度方向而非径向内表面，定义完全不同，故未公开。 |
| 技术特征Y：在0.24至0.29的范围内《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开0.24-0.29这一具体比值范围，故未公开。 |
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### 公开性代码输出
根据上述分析，对比文件隐含公开了技术特征B和技术特征M，未直接或隐含公开其他技术特征。
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