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对比文件列表
2000-02-29_JP2000061677A_发明专利_JP2000061677A Method and device for laser beam cutting_+++A_B_I_K+++.docx
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2000-06-20_JP2000167681A_发明专利_JP2000167681A Laser cutting substrate, liquid crystal display panel and manufacture of the panel_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2000-07-05_KR1020000038519A_发明公开_KR1020000038519A 레이저 커팅 설비_+++I_K_l+++.docx
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2001-02-27_JP2001056455A_发明专利_JP2001056455A Liquid crystal display device panel_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2001-03-23_JP2001077506A_发明专利_JP2001077506A Board for laser cutting and liquid crystal display unit panel constituted of the board for laser cutting_+++A_B_I_K+++.docx
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2001-10-02_US6297869B_发明授权_US06297869B1 Substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2003-06-17_US6580489B_发明授权_US06580489B2 Liquid crystal display panel and a substrate capable of being cut by a laser light_+++a_b_i_k+++.docx
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2003-11-13_US2003209528A_发明申请_US20030209528A1 Laser cutting apparatus and method_+++A_B_D_I_K_l+++.docx
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2004-04-06_US6717101B_发明授权_US06717101B2 Method and apparatus for laser ablation of a target material_+++A_B_E_I_J_L+++.docx
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2004-11-23_US6822725B_发明授权_US06822725B2 Liquid crystal display substrates integrated by sealant formed inside cutting lines_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2005-03-31_JP2005081715A_发明专利_JP2005081715A Laser beam machining apparatus and laser beam machining method_+++A_I_J+++.docx
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2005-07-14_JP2005189530A_发明专利_JP2005189530A Lamination type polarizing plate and its manufacturing method_+++D_F_G_I_L_M_N_k+++.docx
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2006-02-15_CN1733415A_发明公开_CN1733415A 激光加工方法_+++A_B_I_J_L_d+++.docx
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2006-02-16_US2006035411A_发明申请_US20060035411A1 Laser processing method_+++A_B_D_I_J_L+++.docx
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2006-02-23_JP2006051517A_发明专利_JP2006051517A Laser beam machining method_+++A_B_C_D_I_J_L+++.docx
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2006-05-11_US2006098155A_发明申请_US20060098155A1 Substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2006-10-26_JP2006289388A_发明专利_JP2006289388A Apparatus for laser beam machining_+++A_B_I_J+++.docx
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2007-05-23_CN1966198A_发明公开_CN1966198A 激光加工装置_+++A_B_D_I_J_L+++.docx
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2008-03-01_TW200810868A_发明专利_TW200810868A 光學薄膜之切斷方法及光學薄膜_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2008-03-06_JP2008051964A_发明专利_JP2008051964A Method for cutting optical film, and the optical film_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2009-03-04_JP4233999B_发明专利_JP4233999B2 Stacked polarizing plate and a method for manufacturing_+++D_G_I_L_N_f+++.docx
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2009-08-12_CN101505909A_发明公开_CN101505909A 光学膜的切割方法及光学膜_+++D_F_I_K_L+++.docx
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2009-10-05_KR1020090103991A_发明公开_KR1020090103991A 광학 필름의 절단 방법 및 광학 필름_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2010-04-02_JP2010072414A_发明专利_JP2010072414A Optical film, method for manufacturing optical film, and polarizing plate_+++F_I_J_K_m+++.docx
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2010-06-16_CN1966198B_发明授权_CN1966198B 激光加工装置_+++A_B_D_I_J_c+++.docx
2026-07-03 01:17
2011-07-21_KR1020110083881A_发明公开_KR1020110083881A 편광판 절단 방법_+++F_I_K+++.docx
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2011-11-02_JP4808106B_发明专利_JP4808106B2 Cutting method of optical film_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2012-01-05_US2012000894A_发明申请_US20120000894A1 PRECISION LASER SCORING_+++A_B_D_I_K_L+++.docx
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2012-02-02_WO2012014639A_发明申请_WO2012014639A1 偏光板切断方法および当該方法によって切断された偏光板_+++D_F_I_K_M+++.docx
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2012-02-16_JP2012030243A_发明专利_JP2012030243A Method for cutting polarizing plate, and polarizing plate cut by the method_+++F_I_K_M_d+++.docx
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2012-06-01_TW201221262A_发明专利_TW201221262A 雷射切割裝置及具備該雷射切割裝置之切條機 LASER CUTTER AND SLITTER PROVIDED WITH THE LASER CUTTER_+++F_I_K_M_l+++.docx
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2012-09-13_JP2012521339A_发明专利_JP2012521339A Precision laser scoring_+++A_B_D_I_K_L_f+++.docx
2026-07-03 01:17
2012-09-19_CN102686354A_发明公开_CN102686354A 精密激光刻痕_+++A_B_I_K_L+++.docx
2026-07-03 01:17
2013-04-17_CN103052464A_发明公开_CN103052464A 偏振片的切割方法以及使用该方法切割的偏振片_+++D_F_I_K_M+++.docx
2026-07-03 01:17
2013-09-11_CN101505909B_发明授权_CN101505909B 光学膜的切割方法_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
2026-07-03 01:17
2013-12-02_KR1020130130692A_发明公开_KR1020130130692A 편광판 절단 방법 및 상기 방법에 의해 절단된 편광판_+++F_I_M_k+++.docx
2026-07-03 01:17
2014-04-23_JP5481300B_发明专利_JP5481300B2 Polarizing plate that has been cut by the polarizing plate cutting method and the method_+++D_F_I_K_M+++.docx
2026-07-03 01:17
2014-07-02_CN103907051A_发明公开_CN103907051A 光学显示设备的生产系统以及生产方法_+++I_k_l+++.docx
2026-07-03 01:17
2014-09-01_TW201433393A_发明专利_TW201433393A 雷射加工裝置及雷射加工方法_+++I+++.docx
2026-07-03 01:17
2012-02-16_JP2012030243A_发明专利_JP2012030243A Method for cutting polarizing plate, and polarizing plate cut by the method_+++F_I_K_M_d+++.docx

对比文件名称:2012-02-16_JP2012030243A_发明专利_JP2012030243A Method for cutting polarizing plate, and polarizing plate cut by the method

目标专利名称:1663用于切割偏光板的方法以及使用该方法切割的偏光板CN106687249B

本次调用的模型名称:GPT-4

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
**技术特征A:激光束的形状为椭圆形状《未公开》**对比文件未记载激光束形状相关技术内容。对比文件仅提及激光照射,未涉及椭圆形状或其任何形状描述,本领域技术人员不能从其得出激光束为椭圆形状。
**技术特征B:所述椭圆形状的长轴与切割方向平行《未公开》**对比文件未记载椭圆形状及长轴与切割方向的关系。对比文件无椭圆形状公开,更无长轴与切割方向平行的教导或暗示。
**技术特征C:其中,所述椭圆形状具有1:0.6至1:0.4的长轴对短轴的比率《未公开》**对比文件未记载椭圆形状及其长轴与短轴比率。对比文件无任何关于椭圆形状及长短轴比的内容。
**技术特征D:其中,所述激光束具有100毫米/秒至1,000毫米/秒的切割速度《隐含公开》**原文:[0016]「本発明に係る方法では、上記溝形成工程では、レーザ光の出力を24W〜77Wの範囲、かつ、移動速さを300mm/秒〜1000mm/秒の範囲に設定することが好ましい。」<br>中文翻译:在本发明的方法中,在上述沟形成工序中,优选将激光的输出设定在24W~77W的范围内,并且将移动速度设定在300mm/秒~1000mm/秒的范围内。对比文件公开了激光移动速度范围300‑1000mm/s(优选范围)和具体速度300mm/s,该速度在目标专利的100‑1000mm/s范围内。虽然对比文件的速度用于沟槽形成而非直接切割,但其参数相同且教导可根据需要调整速度。本领域技术人员完全有可能合理推断该速度范围同样可应用于直接切割工艺。因此,该技术特征被隐含公开。
**技术特征E:其中,所述激光束具有在5mJ至7mJ的范围内的脉冲能量《未公开》**对比文件未记载脉冲能量相关内容。对比文件仅提及激光输出功率(W),未涉及脉冲能量(mJ),无法直接或隐含得出该范围。
**技术特征F:其中,所述偏光板包括基于环烯烃的薄膜作为光学膜《直接公开》**原文:[0020]「本発明に係る方法では、上記フィルムは、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリプロピレンフィルム、またはポリメタクリル酸メチルフィルムであってもよい。」<br>中文翻译:在本发明的方法中,上述薄膜也可以是环烯烃聚合物薄膜、聚丙烯薄膜、或聚甲基丙烯酸甲酯薄膜。对比文件明确列出COP(环烯烃聚合物)薄膜作为可选的薄膜,且其低吸收率特征正是解决的技术问题之一。该薄膜在对比文件中作为低吸收率层,与目标专利中作为光学膜的作用相同。本领域技术人员可直接无歧义地确认对比文件公开了该特征。
**技术特征G:所述切割方向是与偏光板的拉伸方向相同的方向或是与偏光板的拉伸方向垂直的方向《未公开》**对比文件未记载偏光板的拉伸方向及其与切割方向的关系。对比文件的切割方法关注沟槽形成与撕裂,未提及偏光板拉伸方向,更未揭示切割方向与其的关系。
**技术特征H:在所述偏光板的切割表面上形成的锥度具有80微米至120微米的尺寸《未公开》**对比文件未记载锥度尺寸相关内容。对比文件采用沟槽加撕裂方式,其切断面由撕裂形成,无锥度概念,亦未公开任何锥度尺寸数据。
**技术特征I:其中,所述激光为CO2激光或UV激光《直接公开》**原文:在沟形成工序描述部分「例えば、二酸化炭素レーザ(CO2レーザ)を用いて、発振波長が9.4±0.2μmのレーザ光を照射する場合は、」<br>中文翻译:例如,使用二氧化碳激光(CO2激光),照射振荡波长为9.4±0.2μm的激光时。对比文件明确使用了CO2激光,这是目标专利所述两种激光之一。该激光在对比文件中的作用(加工偏光板)与目标专利相同。因此CO2激光部分被直接公开。
**技术特征J:其中,所述UV激光具有300纳米至400纳米的波长《未公开》**对比文件未记载UV激光及其波长范围。对比文件仅涉及CO2激光(波长9‑11μm),无任何UV激光的教导或暗示。
**技术特征K:其中,所述CO2激光具有9.0微米至10.9微米的振荡波长《直接公开》**原文:在关于激光波长的描述部分「CO2レーザを用いる場合は、発振波長が9.2μm〜10.8μmのレーザ光を照射することが好ましい。」<br>中文翻译:当使用CO2激光时,优选照射振荡波长为9.2μm~10.8μm的激光。对比文件公开的优选波长范围9.2‑10.8μm完全落入目标专利的9.0‑10.9μm范围内。激光波长作用均为选择适合的加工波长,领域内技术人员能毫无疑义地确定该特征被公开。
**技术特征L:其中,使用激光切割偏光板通过单一切割系统或多重切割系统执行《未公开》**对比文件未记载单一切割系统或多重切割系统。对比文件采用激光形成沟槽后再结合机械撕裂完成切割,并非通过单一或多次激光扫描直接切割,未公开所述系统。
**技术特征M:其中,所述基于环烯烃的薄膜具有10微米至80微米的厚度《直接公开》**原文:实施例1「COP偏光板は、上から、保護フィルムとしてのPETフィルム(58μm)、TACフィルム(80μm)、偏光子としてのPVAフィルム(25μm)、COPフィルム(70μm)、粘着剤層(25μm)、セパレートフィルムとしてのPETフィルム(38μm)が積層された構成となっている。」<br>中文翻译:COP偏光板从上依次为:作为保护膜的PET薄膜(58μm)、TAC薄膜(80μm)、作为偏振片的PVA薄膜(25μm)、COP薄膜(70μm)、粘合剂层(25μm)、作为分离膜的PET薄膜(38μm)。对比文件公开的COP薄膜厚度为70μm,该数值落在目标专利的10‑80μm范围内。作为具体实施方式,本领域技术人员可直接确认该特征被公开。
**技术特征N:其中,所述偏光板具有50微米至250微米的厚度《未公开》**对比文件未公开偏光板总厚度在该范围的值。对比文件实施例中偏光板总厚度为58+80+25+70+25+38=296μm,超出50‑250μm范围,且无其他教导或暗示指向该范围。

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