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对比文件列表
2001-07-10_JP2001189343A_发明专利_JP2001189343A Wire-bonding method and semiconductor device_+++A_C_D_E_F_G_H_I+++.docx
2026-07-22 17:36
2001-07-12_KR1020010067448A_发明公开_KR1020010067448A 반도체 장치의 구리 상호 접속을 위한 와이어 본딩 방법 및 반도체 장치_+++C_D_E_F_G_H_I_a_j+++.docx
2026-07-22 17:36
2001-11-21_GB2362510A_发明专利_GB2362510A Wire bonding method for semiconductor devices_+++C_D_E_F_G_H_I_a+++.docx
2026-07-22 17:36
2001-12-21_TW469592B_发明专利_TW469592B 半導體裝置中銅內連線之引線接合方法_+++C_D_E_F_G_H_I_a+++.docx
2026-07-22 17:36
2003-11-28_JP2003338514A_发明专利_JP2003338514A Structure and method of ultrasonic bonding, and electronic component using the same and method of manufacturing the electronic component_+++F_I+++.docx
2026-07-22 17:36
2004-09-14_US6790757B_发明授权_US06790757B1 Wire bonding method for copper interconnects in semiconductor devices_+++A_C_D_E_F_G_H_I+++.docx
2026-07-22 17:36
2005-02-17_US2005035466A_发明申请_US20050035466A1 Wire bonding method for copper interconnects in semiconductor devices_+++A_C_D_E_F_G_H_I+++.docx
2026-07-22 17:36
2006-04-06_JP2006093743A_发明专利_JP2006093743A Semiconductor device_+++A_C_D_E_F_G_H_I+++.docx
2026-07-22 17:36
2006-07-12_JP3796116B_发明专利_JP3796116B2 Wire bonding method and a semiconductor device_+++A_C_D_E_F_G_H_i_j+++.docx
2026-07-22 17:36
2006-08-03_US2006170114A_发明申请_US20060170114A1 Novel method for copper wafer wire bonding_+++B_G_a_f_i+++.docx
2026-07-22 17:36
2007-07-25_EP1811579A_发明公开_EP1811579A1 Galvanic optocoupler structure and corresponding hybrid integration process_+++B_G_I_f_h+++.docx
2026-07-22 17:36
2007-11-29_WO2007135604A_发明申请_WO2007135604A2 INTERCONNECTION ARRANGEMENT AND METHOD FOR INTERCONNECTING A HIGH-CUURENT CARRYING CABLE WITH A METAL THIN-FILM_+++F_G_H_I+++.docx
2026-07-22 17:36
2008-04-03_JP2008078272A_发明专利_JP2008078272A Ultrasonic vibration welding apparatus_+++K_L_f_i+++.docx
2026-07-22 17:36
2003-11-28_JP2003338514A_发明专利_JP2003338514A Structure and method of ultrasonic bonding, and electronic component using the same and method of manufacturing the electronic component_+++F_I+++.docx

对比文件名称:2003-11-28_JP2003338514A_发明专利_JP2003338514A Structure and method of ultrasonic bonding, and electronic component using the same and method of manufacturing the electronic component

目标专利名称:1295利用导体接触器件CN102150294B

本次调用的模型名称:deepseek-reasoning

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用公开性论述
技术特征A:该器件(1)包括具有至少一个单元(3)、接触区(4)和封装(5)的衬底(2)——未公开【0022】“压电基板1上形成交叉指状电极2及配线电极3,……焊盘电极5”;【0021】“压电基板上形成交叉指状电极”。但全文未公开任何封装结构。对比文件公开了压电基板(衬底)、交叉指状电极(单元)和焊盘电极(接触区),但未公开任何形式的封装(如薄膜封装),其保护层11(高熔点金属层)并非用于封装,材料与功能均不同,因此本领域技术人员不能毫无疑义地得出该特征,也不构成隐含公开。
技术特征B:所述封装包括薄膜并且该薄膜包含氮化硅、碳化硅或氧化铝——未公开【0024】“高熔点金属层11(铬)”;【0037】“铬、镍、钛、铁等”。对比文件中的保护层由高熔点金属或其化合物构成,并非氮化硅、碳化硅或氧化铝,也未提及这些材料,因此未公开该特征。
技术特征C:其中所述封装(5)封装至少接触区(4)——未公开对比文件无封装,仅存在保护层覆盖焊盘和基板(【0024】“高熔点金属层11覆盖基板及配线图案及焊盘电极的露出面”)。保护层用于增强接合和防静电,并非用于封装,也未实现封装功能,因此未公开。
技术特征D:将导体(6)设置在封装(5)上——未公开【0027】“保护层11(高熔点金属层)上形成凸点电极12”。导体设置在保护层上,而非封装上,且保护层不构成封装,因此未公开。
技术特征E:在不事先移除导体(6)与接触区(4)之间的封装(5)的情况下将导体(6)与接触区(4)互连——未公开【0027】“通过超声波接合在保护层11上形成凸点电极12,保护层在接合过程中被破碎分散”。对比文件虽在不事先移除保护层的情况下进行接合,但保护层并非封装,且目标专利中封装的特定材料和作用(防水防气)与保护层完全不同,因此未公开。
技术特征F:其中将导体(6)与接触区(4)互连包括超声焊接——直接公开【0001】“本発明は、超音波接合構造及び方法…”;【0027】“超音波接合ステップ”;【0011】“超音波接合”。对比文件明确公开使用超声焊接将导体(凸点电极)与接触区(焊盘电极)互连,该技术特征与目标专利完全相同,因此直接公开。
技术特征G:其中所述导体(6)包括金属线——未公开【0027】“凸点电极12(金或金合金)”。对比文件中的导体为凸点电极(球状或块状),并非金属线,也未提及线状导体,因此未公开。
技术特征H:其中所述金属线是扁平的和/或包含铜、铝或银——未公开【0027】“凸点电极12为金或金合金”,未提及扁平形状或铜铝银材料。对比文件的导体材料为金,形状为凸点,不满足扁平金属线或铜铝银的要求,未公开。
技术特征I:其中所述接触区(4)用作用于所述单元(3)的电极——直接公开【0022】“パッド電極5(第一の導電体又はパッド電極を含む導体層)”;【0023】“パッド電極5…作为电极”。对比文件中的焊盘电极5用于连接单元(交叉指状电极),作为电极使用,因此直接公开了接触区用作单元的电极。
技术特征J:其中所述封装(5)封装至少所述接触区(4)和所述至少一个单元(3)——未公开对比文件无封装,保护层仅覆盖部分区域,并非封装。同特征C,未公开封装结构,因此未公开。
技术特征K:其中所述超声焊接工作于≥10kHz与≤80kHz之间——未公开全文未提及超声焊接的具体频率范围。对比文件未公开任何超声焊接频率参数,本领域技术人员不能从中得知该范围,也未隐含公开。
技术特征L:其中所述超声焊接工作于≥30kHz与≤40kHz之间——未公开全文未提及该频率范围。对比文件未公开,不构成直接或隐含公开。
技术特征M:其中所述超声焊接工作于35kHz——未公开全文未提及35kHz。对比文件未公开,不构成直接或隐含公开。
技术特征N:一种能够通过根据权利要求1-9中任一项的方法得到的OLED(1)——未公开对比文件涉及弹性表面波(SAW)器件,而非OLED。对比文件未公开任何OLED器件,且其方法步骤与目标专利权利要求1-9的方法存在本质差异(无封装、无特定导体等),因此未公开。

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