对比文件名称：2005-08-31_JP3688845B_发明专利_JP3688845B2 Liquid crystal display device
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：DeepSeek
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 特征A：所述制造方法包括《直接公开》 | 段落【0026】：“体積ホログラム１１は、感光乾板に対して、物体光と逆の方向から参照光を入射することで作成される”。（中文：体全息图11是通过对感光干板从与物体光相反的方向入射参考光来制作的。） | 对比文件明确记载了制造体全息图的方法，包括提供感光干板和曝光步骤，直接公开了制造全息光学元件的方法步骤。 |
| 特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)《隐含公开》 | 段落【0024】：“導光板１０の液晶セル１に対向する面上に設けられて…体積ホログラム１１”。段落【0026】：“体積ホログラム１１は、感光乾板に対して、物体光と逆の方向から参照光を入射することで作成される”。（感光干板通常包括基底和光敏层。） | 对比文件虽未直接描述涂覆过程，但“感光乾板”为本领域已知的具有基底和光敏涂层的结构，本领域技术人员可合理推断该步骤必然存在，因此隐含公开。 |
| 特征C：通过用激光照射光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录全息光栅的步骤(b)《直接公开》 | 段落【0026】：“体積ホログラム１１は、感光乾板に対して、物体光と逆の方向から参照光を入射することで作成される”。 | 对比文件明确公开了从相反方向（对应两个表面）用光照射感光干板以形成干涉条纹，即全息光栅记录步骤；全息记录通常使用激光，本领域技术人员毫无疑义地可确认该步骤。 |
| 特征D：其中在步骤(a)中施加光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件全文未涉及光敏树脂涂层的厚度变化，也未给出任何调整涂层高度的教导。 |
| 特征E：全息光栅记录在光敏树脂涂层的整个高度上《隐含公开》 | 段落【0026】：“感光乾板の厚さ方向に屈折率差を持つ干渉縞が形成される”。（在感光干板的厚度方向形成具有折射率差的干涉条纹。） | 干涉条纹形成于整个厚度方向，即记录在感光层的整个高度上，与目标专利技术内容实质相同，故隐含公开。 |
| 特征F：光敏树脂涂层的高度沿预定方向逐渐增加；且全息光栅的高度沿预定方向变化《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未提供涂层高度变化或全息光栅高度变化的任何信息。 |
| 特征G：全息光栅的高度沿预定方向逐渐增加《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未提及全息光栅高度变化。 |
| 特征H：全息光栅具有相同的宽度《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未涉及全息光栅宽度的均匀性。 |
| 特征I：其中在步骤(a)中将光敏树脂喷涂至基底的一个表面上多个位置处《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未公开喷涂涂覆方式。 |
| 特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件无相关变化量描述。 |
| 特征K：步骤(a)包括将基底浸入包含光敏树脂的容器中的步骤(a-1)《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未公开浸涂步骤。 |
| 特征L：和通过在一个方向上移动基底将基底与容器分离的步骤(a-2)《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件无分离步骤。 |
| 特征M：在步骤(a-2)中在改变基底的移动速度的同时将基底与容器分离《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未公开移动速度变化。 |
| 特征N：步骤(a)包括在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的步骤(a-1)《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件无辅助基底相关内容。 |
| 特征O：和移动基底和辅助基底中的至少一者的步骤(a-2)《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件无相关移动步骤。 |
| 特征P：在步骤(a-2)中在改变基底和辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动基底和辅助基底中的至少一者《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未涉及相对速度变化。 |
| 特征Q：其中在步骤(a)中在基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供光敏树脂《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未公开倾斜提供树脂的方法。 |
| 特征R：将光敏树脂干燥《未公开》 | 无相关记载。 | 对比文件未涉及干燥步骤。 |
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