好的，我将严格按照您的指示，对对比文件 US20180031749A1 是否公开目标专利 CN113728257B 权利要求的各技术特征进行深入评估。以下为特征比对表格及分析结果。
**目标专利名称**：全息光学元件及其制造方法 (CN113728257B)
**对比文件名称**：METAMATERIAL OPTICAL FILTER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME (US20180031749A1)
**本次调用的模型名称**：大型语言模型 (基于 GPT-4 架构)
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译成中文并标注段落号） | 公开性论述 |
| **A: 所述制造方法包括**<br>《直接公开》 | **[0022]** “一种制造超材料光学滤波器的方法，所述方法包括：将光敏聚合物层施加到基底；将光敏聚合物层放置在激光和镜子之间；以及扫描激光使得通过激光和从镜子反射的光之间的相互作用在光敏聚合物层内创建全息光栅。” | 对比文件明确公开了一种全息光学元件的制造方法，其技术方案涉及通过施加光敏材料并利用激光记录光栅，这与目标专利所述方法的前序部分直接对应，属于直接公开。 |
| **B: 通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)**<br>《直接公开》 | **[0022]** “...将光敏聚合物层施加到基底...” | 对比文件中的“将光敏聚合物层施加到基底”即为在基底表面涂覆光敏材料的步骤，形成了光敏基底。该特征被直接公开。 |
| **C: 通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)**<br>《直接公开》 | **[0022]** “...将光敏聚合物层放置在激光和镜子之间；并且扫描激光使得通过激光和从镜子反射的光之间的相互作用在光敏聚合物层内创建全息光栅。” | 对比文件利用激光（直接入射到光敏层一个表面）和镜子反射的光（从另一表面入射）在光敏聚合物层内产生干涉，从而记录全息光栅。这实质上等同于用激光分别照射光敏基底的两个表面以记录光栅。该特征被直接公开。 |
| **D: 其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件仅一般性地描述“施加光敏聚合物层”，未提及涂层高度在施加时沿预定方向变化，也未描述用于实现该变化的任何具体手段。 | 对比文件未公开在施加步骤中使涂层高度变化这一技术特征。目标专利通过该特征解决衍射效率均匀性问题，而对比文件没有涉及涂层厚度变化的必要性或技术方案。因此未直接或隐含公开。 |
| **E: 所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上**<br>《直接公开》 | **[0065]** “一个14微米厚的光敏聚合物层可以记录超过二十多个半波条纹层。” | 对比文件明确说明半波条纹层记录在整个光敏聚合物层厚度内（14微米厚对应20多个半波层），即全息光栅贯穿记录在整个涂层厚度上。该特征被直接公开。 |
| **F: 所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件中全息光栅的高度（即涂层厚度）通常是均匀的，未提及沿方向逐渐变化。 | 对比文件未公开光栅高度或涂层高度沿预定方向变化的技术特征。目标专利的核心在于通过涂层的渐变高度实现渐变衍射效率，而对比文件没有给出任何关于涂层高度或光栅高度在空间上变化的教导或暗示。 |
| **G: 所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加**<br>未公开 | 同特征F，无相关内容。 | 同特征F，对比文件未公开光栅高度逐渐增加的特征。 |
| **H: 所述全息光栅具有相同的宽度**<br>《隐含公开》 | **[0063]** “非倾斜条纹陷波滤波器...可以容忍记录介质在曝光期间在平面内的移动...在不模糊条纹的情况下保持良好的对比度和光栅效率。”<br> **[0068]** “平行（非倾斜或共形）光栅（图3A）。” | 对比文件详细描述了非倾斜全息光栅的制造及其性能，强调其条纹平行且均匀。虽然未明确说明“宽度相同”，但本领域技术人员在本领域中通常明了，通过激光干涉形成的标准体积光栅在其横向尺寸（宽度）上是一致的，除非特殊设计（如啁啾光栅）否则不会出现宽度变化。对比文件所有实施例均基于这种均匀条纹的常规光栅结构，因此可以合理推断该特征被隐含公开。 |
| **I: 其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件未描述任何关于“喷涂”的施加方式。 | 对比文件未公开该具体的喷涂施加方式。目标专利通过喷涂并控制量来形成渐变涂层，而对比文件仅泛泛提及“施加”，未暗示或教导喷涂方法及相关特征。 |
| **J: 喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件未涉及喷涂工艺，更未提及喷涂量的变化。 | 对比文件完全不涉及该技术特征。 |
| **K: 其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件未描述浸入工艺。 | 对比文件未公开通过浸入方式施加树脂的特征。 |
| **L: 和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)**<br>未公开 | 无相关内容。 | 对比文件未公开将基底从容器中分离的步骤及相关特征。 |
| **M: 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离**<br>未公开 | 无相关内容。 | 对比文件未公开改变移动速度的分离方法及其与涂层高度变化的关联。 |
| **N: 其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件未提及“辅助基底”或类似结构以夹持光敏树脂。 | 对比文件未公开该通过基底和辅助基底提供光敏树脂的特征。 |
| **O: 和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)**<br>未公开 | 无相关内容。 | 对比文件未公开移动基底或辅助基底以形成涂层的步骤。 |
| **P: 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者**<br>未公开 | 无相关内容。 | 对比文件未公开改变相对移动速度以控制涂层高度的技术特征。 |
| **Q: 其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件未描述在倾斜状态下提供树脂以形成渐变涂层。 | 对比文件未公开该特征。目标专利通过倾斜基底利用重力形成渐变厚度，而对比文件完全没有涉及此原理。 |
| **R: 将所述光敏树脂干燥**<br>未公开 | 无相关内容。对比文件未涉及干燥步骤。 | 对比文件未公开干燥步骤。目标专利在倾斜状态下干燥以固定渐变涂层，对比文件无此特征。 |
### 输出代码
基于以上分析，对比文件直接公开了技术特征 A、B、C、E，隐含公开了技术特征 H。其余技术特征未公开。
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<E>>><<<h>>>