对比文件名称：2012-05-07_KR101142525B_发明授权_KR101142525B1 그래핀을 이용한 플렉시블 디스플레이의 제조방법 그리고 이를 이용한 디스플레이
目标专利名称：利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法 CN107108226B
本次调用的模型名称：资深专利代理AI模型
**特征比对表格**
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：步骤1，对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化来制备进料溶液的步骤 [未公开] | 对比文件未公开含有膨胀石墨和分散剂的分散液，也未公开对该分散液进行高速均质化。对比文件[0030]‑[0032]公开了由石墨或石墨烯薄片经氧化制备氧化石墨烯分散液，并还原得到石墨烯分散液；[0049]使用均质机处理氧化石墨烯分散液，但原料为氧化石墨烯而非膨胀石墨，且未使用分散剂。 | 对比文件既未使用膨胀石墨也未使用分散剂，其均质化步骤针对氧化石墨烯，与目标专利的原料和目的均不同。本领域技术人员无法从对比文件毫无疑义地或合理推断出对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化。 |
| 技术特征B：步骤2，使所述进料溶液通过高压均质器的步骤 [隐含公开] | 对比文件[0013]及[0032]公开：“산화그래핀 분산용액은, 호모게나이저(homogenizer), 초음파기, 고압균질기 중 선택된 하나 이상을 사용하여 형성되는 것이 바람직하다”（优选地，氧化石墨烯分散液通过使用选自均质机、超声机、高压均质机中的一种或多种形成）。 | 对比文件明确公开了使用高压均质机处理石墨烯相关的分散液，该过程必然包括使溶液通过高压均质机。虽然目标专利的进料溶液为步骤1制得的特定溶液，但使溶液通过高压均质器的动作本身已被对比文件公开。本领域技术人员可以合理推断出该步骤，故技术特征B被隐含公开。 |
| 技术特征C：所述高压均质器包括入口、出口以及连接在所述入口和所述出口之间并且具有微米级直径的微通道 [隐含公开] | 对比文件仅提及“고압균질기”（高压均质机），未描述其内部结构。但高压均质机作为公知设备，其基本结构和工作原理为本领域技术人员所熟知。 | 高压均质机通常由入口、出口及内部微米级通道（或缝隙）组成，流体在高压下通过这些通道产生剪切力。本领域技术人员在看到“高压均质机”这一术语时，能够合理推断其必然包含入口、出口和微米级直径的微通道，故技术特征C被隐含公开。 |
| 技术特征D：其中，所述高速均质化通过以3000至8000rpm搅拌所述分散液来进行 [未公开] | 对比文件未提及高速均质化的转速。实施例[0050]中还原步骤的搅拌速度为400rpm，但该步骤不是均质化步骤。 | 对比文件中没有任何关于高速均质化转速的信息，本领域技术人员无法直接或间接得出3000‑8000rpm的转速范围。 |
| 技术特征E：其中，所述高速均质化进行0.5至3小时 [隐含公开] | 对比文件[0049]公开：“초음파나 호모게나이저를 1시간 동안 처리하여”（使用超声或均质机处理1小时）。 | 对比文件公开了均质机处理时间为1小时，该时间落在0.5‑3小时范围内。虽然处理对象为氧化石墨烯分散液而非膨胀石墨分散液，但均质化处理的时间参数具有通用性。本领域技术人员可以合理推断出高速均质化可以进行0.5至3小时，故技术特征E被隐含公开。 |
| 技术特征F：并使用高速均质器进行搅拌 [直接公开] | 对比文件[0049]公开：“초음파나 호모게나이저를 1시간 동안 처리하여”（使用超声或均质机处理1小时）。 | 对比文件明确公开了使用均质机（homogenizer，即高速均质器）进行搅拌处理。因此技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：其中在高速均质器的转子和定子之间施加的剪切速率为>10^4秒^-1 [未公开] | 对比文件未提及剪切速率。 | 对比文件没有任何关于剪切速率的信息。 |
| 技术特征H：其中，所述膨胀石墨与所述分散剂的重量比为2.5至20 [未公开] | 对比文件未涉及膨胀石墨和分散剂的比例。 | 对比文件既未使用膨胀石墨也未使用分散剂，因此该比例范围未被公开。 |
| 技术特征I：其中，所述膨胀石墨在所述分散液中的浓度为0.5重量％至5重量％ [未公开] | 对比文件未涉及膨胀石墨的浓度。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征J：其中，所述膨胀石墨的振实密度为0.01至0.5g/cm³ [未公开] | 对比文件未涉及膨胀石墨的振实密度。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征K：BET表面积为5至50m²/g [未公开] | 对比文件未涉及BET表面积。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征L：其中，所述分散剂是芘类低分子量衍生物 [未公开] | 对比文件未提及使用任何分散剂。 | 对比文件未公开任何分散剂种类，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征M：纤维素聚合物 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征N：阳离子表面活性剂 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征O：阴离子表面活性剂 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征P：正十二烷基b‑D‑麦芽糖苷 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征Q：两性表面活性剂 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征R：聚乙烯吡咯烷酮类聚合物 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征S：聚氧化乙烯类聚合物 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征T：环氧乙烷‑环氧丙烷共聚物 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征U：丹宁酸 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征V：多种多环芳烃氧化物的混合物，其是含有60重量％以上的量的分子量为300至1000的多环芳烃氧化物的混合物 [未公开] | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征W：其中，所述分散液的溶剂是选自水、NMP、丙酮、DMF、DMSO、CHP、N12P、苯甲酸苄酯、N8P、DMEU、环己酮、DMA、NMF、溴苯、氯仿、氯苯、苄腈、喹啉、二苄醚、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2‑乙氧基乙醇、2‑丁氧基乙醇、2‑甲氧基丙醇、THF、乙二醇、吡啶、N‑乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮、α‑萜品醇、甲酸、乙酸乙酯和丙烯腈中的一种或多种 [直接公开] | 对比文件[0034]公开用于高纯度石墨烯分散液的溶剂列表，翻译：“可以使用选自丙酮、甲基乙基酮、甲基醇、乙基醇、异丙基醇、丁基醇、乙二醇、聚乙二醇、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、己烷、环己酮、甲苯、氯仿、蒸馏水、二氯苯、二甲基苯、三甲基苯、吡啶、甲基萘、硝基甲烷、丙烯腈、十八胺、苯胺、二甲基亚砜等中的一种以上。”其中丙酮、甲基乙基酮（MEK）、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、乙二醇、THF、DMF、DMA、NMP、环己酮、氯仿、蒸馏水（水）、吡啶、丙烯腈、DMSO均落于目标专利的溶剂列表中。 | 对比文件明确公开了多种落于目标专利溶剂列表中的溶剂，用于石墨烯分散液的制备。本领域技术人员可以直接得出分散液的溶剂可以选自这些溶剂。因此技术特征W被直接公开。 |
| 技术特征X：其中，所述进料溶液中的膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道时被剥离，从而制备石墨烯 [未公开] | 对比文件未公开通过高压均质微通道剥离膨胀石墨制备石墨烯的过程。对比文件制备石墨烯是通过氧化还原法（[0030]‑[0035]）。 | 对比文件未公开剥离过程，原料也不同。 |
| 技术特征Y：其中，所述微通道的直径为50至300μm [未公开] | 对比文件未提及微通道直径。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征Z：其中，所述进料溶液被引入到施加500至3000巴的压力下的所述高压均质器的入口并通过所述微通道 [未公开] | 对比文件未提及压力范围（如500‑3000巴）。 | 对比文件未公开。 |
**公开性代码汇总**
根据上述分析，对比文件直接公开了技术特征F和W，隐含公开了技术特征B、C、E。对应代码如下：
<<<b>>><<<c>>><<<e>>><<<F>>><<<W>>>