**对比文件名称：** 2012-07-26_US2012188791A_发明申请_US20120188791A1 SUBSTRATE-GUIDED HOLOGRAPHIC DIFFUSER
**目标专利名称：** 1561全息光学元件及其制造方法CN113728755B
**本次调用的模型名称：** GPT-4
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### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（英文及中译文） | 公开性论述 |
| **技术特征A：** 所述制造方法包括<br>《直接公开》 | 对比文件全文公开了一种基底引导的全息扩散器的制造方法，尤其涉及光敏材料的涂覆和全息记录步骤。例如[0055]：“One step in fabricating a Substrate-Guided Holographic Diffuser is to define the geometry of the holographic recording.”（制造基底引导全息扩散器的一个步骤是定义全息记录的几何形状。）以及[0053]、[0056]、[0058]等描述了具体的涂覆和记录过程。 | 对比文件明确提出了制造全息光学元件的方法，该方法至少包括涂覆光敏材料和激光记录全息图等核心步骤，与目标专利的制造方法属于同一技术领域，因此技术特征A被直接公开。 |
| **技术特征B：** 通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)<br>《直接公开》 | [0053]：“The material for volumetric holographic recording of such an optical element can be, e.g., DuPont HRF700X318 photopolymer, either laminated or spin-coated onto the plate 320.”（这种光学元件的体积全息记录材料可以是例如杜邦 HRF700X318 光致聚合物，通过层压或旋涂到板320上。）<br>[0056]：“in recording, a transparent plate 420 with a photo-material 450 deposited on top of it...”（在记录中，将透明板420与沉积在其上的光敏材料450一起...） | 对比文件公开了将光敏树脂（光致聚合物）涂覆在基板的一个表面上，形成光敏基底，这完全对应于步骤(a)。涂覆方式包括旋涂、层压等，属于本领域已知方法。因此技术特征B被直接公开。 |
| **技术特征C：** 通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)<br>《直接公开》 | [0058]：“Laser wave fronts 470 and 460 interfere in the photo-material 450... thus creating an interference pattern which, on post-processing of the photo-material, becomes a hologram...” （激光波前470和460在光敏材料450中干涉，从而产生干涉图案，该图案在光敏材料后处理后成为全息图。）<br>[0062]：“...both recording wave fronts 460 and 470 are incident on the recording material from its opposite sides”（两个记录波前460和470从记录材料的相反侧入射。） | 对比文件明确记载了用激光从光敏基底的两个表面分别照射（或不限于两侧入射，但至少公开了从两侧照射的记录方式），通过干涉记录全息光栅，与步骤(b)完全一致。因此技术特征C被直接公开。 |
| **技术特征D：** 其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化<br>《未公开》 | [0060]：“adjusting of the diffraction efficiency across the light guide is desirable... One way to do this is by adjusting the intensity ratio for the recording wave fronts... Another way to provide homogeneous brightness is to make the diffraction efficiency of the central part of the holographic element H maximal while decreasing it smoothly to the edges...” （期望调节整个光导的衍射效率...一种方法是通过调整记录波前的强度比...另一种提供均匀亮度的方法是使全息元件H中心部分的衍射效率最大，同时向边缘平滑减小。） | 对比文件虽然提出通过调节记录光强度或衍射效率梯度来实现亮度均匀性，但完全没有涉及改变光敏树脂涂层的高度（厚度）。所有记载均假设光敏树脂涂层厚度均匀（如20μm），没有公开或暗示涂层高度可沿预定方向变化。因此技术特征D未被公开。 |
| **技术特征E：** 所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上<br>《直接公开》 | [0053]：“DuPont HRF700X318 photopolymer, either laminated or spin-coated onto the plate 320. ... thickness, e.g., ˜20 μm.”（杜邦HRF700X318光致聚合物，层压或旋涂在板320上...厚度例如约20微米。）<br>[0058]：“Laser wave fronts 470 and 460 interfere in the photo-material 450... thus creating an interference pattern which... becomes a hologram (H, FIG. 7).” （激光波前470和460在光敏材料450中干涉...产生干涉图案，该图案成为全息图(H, 图7)。） | 对比文件中的光敏树脂涂覆层具有均匀的厚度，全息记录发生在整个光敏层内（体全息记录），即全息光栅遍布该光敏树脂涂层的整个高度。本领域技术人员可以毫无疑义地确定，在对比文件中全息光栅记录在光敏树脂涂层的整个高度上。因此技术特征E被直接公开。 |
| **技术特征F：** 所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且其中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《未公开》 | 对比文件未公开光敏树脂涂层高度沿预定方向变化或全息光栅高度沿预定方向变化的内容。有关衍射效率梯度调整的记载([0060])均通过记录光束强度或其他参数实现，而非通过涂层或光栅的几何高度变化。 | 对比文件既未公开光敏树脂涂层高度沿预定方向逐渐增加，也未公开全息光栅高度随之变化，反而在实施例中涂层高度是均匀的。全息光栅高度均匀（取决于涂层均匀厚度）。因此技术特征F未被公开。 |
| **技术特征G：** 所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《未公开》 | 同特征F，对比文件无相关记载。 | 由于对比文件中涂层高度均匀，全息光栅高度也必然是均匀的，没有公开高度逐渐增加的任何方案。因此技术特征G未被公开。 |
| **技术特征H：** 所述全息光栅具有相同的宽度<br>《隐含公开》 | [0058]：“Laser wave fronts 470 and 460 interfere in the photo-material 450... thus creating an interference pattern...” （激光波前470和460在光敏材料450中干涉...产生干涉图案。）<br>[0061]：“Light beams 470 in FIGS. 6 and 570 in FIG. 7 are collimated as this defines a homogeneous wave front for hologram recording.” （图6中的光束470和图7中的光束570是准直的，因为这定义了用于全息记录的均匀波前。） | 对比文件使用准直激光进行全息记录，干涉条纹的周期由两束光的夹角决定且恒定不变。在均匀曝光和显影条件下，形成的全息光栅条纹宽度（如线宽或占空比）通常是相同的。虽然对比文件未明确文字表述，但本领域技术人员根据其记录条件可以合理推断全息光栅具有相同的宽度。因此技术特征H被隐含公开。 |
| **技术特征I：** 其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处<br>《未公开》 | 对比文件[0053]仅提及“spin-coated”（旋涂）或“laminated”（层压），未提及喷涂方法。例如：“DuPont HRF700X318 photopolymer, either laminated or spin-coated onto the plate 320.” | 对比文件记载的涂覆方式限于旋涂、层压，未公开喷涂工艺，也未启示使用喷涂来形成涂层。因此技术特征I未被公开。 |
| **技术特征J：** 喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 针对特征I，对比文件未公开喷涂方式，自然也未公开喷涂量的位置变化。因此技术特征J未被公开。 |
| **技术特征K：** 其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)<br>《未公开》 | 对比文件无浸涂工艺的记载。 | 对比文件未涉及将基底浸入光敏树脂容器的步骤。其涂覆方法为旋涂或层压，与浸涂完全不同。因此技术特征K未被公开。 |
| **技术特征L：** 和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开浸涂及其后续分离步骤，因此技术特征L未被公开。 |
| **技术特征M：** 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开浸涂分离过程中的速度控制变化，因此技术特征M未被公开。 |
| **技术特征N：** 其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未涉及在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的工艺，其涂覆为直接到单一基底上。因此技术特征N未被公开。 |
| **技术特征O：** 和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 基于特征N，对比文件未公开任何辅助基底及相对移动的步骤。因此技术特征O未被公开。 |
| **技术特征P：** 在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开任何涉及辅助基底及变化相对移动速度的工艺，因此技术特征P未被公开。 |
| **技术特征Q：** 其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂<br>《未公开》 | 对比文件无相关记载。 | 对比文件未公开在基底倾斜状态下涂覆光敏树脂的步骤，公开的涂覆方式都是水平或常规取向。因此技术特征Q未被公开。 |
| **技术特征R：** 将所述光敏树脂干燥<br>《未公开》 | 对比文件[0058]提到“on post-processing of the photo-material”（在光敏材料的后处理中），但后处理通常包括固化等步骤，未明确提及干燥。 | 对比文件未明确记载在倾斜状态下提供光敏树脂后的干燥步骤。虽然后处理可能包含干燥，但特征R特指在特征Q的倾斜涂覆后的干燥，对比文件无该组合情景，因此技术特征R未被公开。 |
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### 公开性代码输出
根据对比文件对目标专利各技术特征的直接或隐含公开情况，在回答结尾插入对应代码：
直接公开特征A：<<<A>>>
直接公开特征B：<<<B>>>
直接公开特征C：<<<C>>>
直接公开特征E：<<<E>>>
隐含公开特征H：<<<h>>>
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<E>>><<<h>>>