对比文件名称：2019-04-04_JP2019053289A_发明专利_JP2019053289A 透明導波路ディスプレイ
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728260B
本次调用的模型名称：DeepSeek
以下为特征比对表格：
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（日文及中文翻译） | 公开性论述 |
| 特征A：《直接公开》 | [0005]：“最初に光重合可能なモノマーと液晶材料との混合体の薄膜を平行なガラスプレートまたは基板同士の間に配置することによって製造される。” 中文翻译：“首先，通过将光聚合性单体和液晶材料的混合物的薄膜配置在平行的玻璃板或基板之间来制造。” | 对比文件公开了一种制造全息光学元件的方法，包括配置光敏材料层等步骤，因此制造方法这一上位概念已被直接公开。 |
| 特征B：《直接公开》 | [0162]：“RMLCM（記録用モノマー液晶混合物）をPVB膜上に噴射する。” 中文翻译：“将RMLCM（记录用单体液晶混合物）喷射到PVB膜上。” | 对比文件公开了通过喷射将光敏树脂（RMLCM）涂覆在基底（PVB膜）的一个表面上，形成光敏基底，因此特征B直接公开。 |
| 特征C：《直接公开》 | [0005]：“干渉する2つの互いにコヒーレントなレーザビームを液体材料に照射することによって体積位相格子が記録される。” 中文翻译：“通过用两束相互干涉的相干激光束照射液体材料来记录体积相位光栅。” | 对比文件明确公开了用相干激光照射记录全息光栅，虽然未限定具体照射表面，但两束干涉光通常从不同方向入射，本领域技术人员理解其相当于照射光敏基底的不同表面，因此特征C直接公开。 |
| 特征D：未公开 | 无相关记载。对比文件[0020]虽提及格子厚度变化，但并非通过步骤(a)中施加树脂的方式实现。 | 对比文件没有公开在步骤(a)中通过施加光敏树脂使其涂层高度沿预定方向变化的技术特征。对比文件中的楔形格子通过基板楔形形成，而非控制涂覆过程，因此特征D未被公开。 |
| 特征E：《直接公开》 | [0005]：“体積位相格子が記録される。” 中文翻译：“记录体积相位光栅。” | 体积相位光栅记录在整个光敏材料层的高度内，即全息光栅记录在光敏树脂涂层的整个高度上，特征E直接公开。 |
| 特征F：《直接公开》 | [0020]：“第1および第2の光学基板のうちの少なくとも一方の少なくとも1つの格子薄板は、それぞれの光伝搬方向に沿って変化する厚さを有する。” 中文翻译：“第一和第二光学基板中的至少一个的至少一个格子薄板具有沿各自光传播方向变化的厚度。” 以及[0135]：“楔形格子203は、格子基板201に小さい楔を含めることによって設けられる。” 中文翻译：“楔形格子203通过包括在格子基板201中的小楔形设置。” | 对比文件公开了格子薄板厚度沿方向变化（即全息光栅高度变化），且由于楔形结构，涂层厚度（高度）也沿方向逐渐增加，因此特征F直接公开。 |
| 特征G：《直接公开》 | 同上[0020]引用。 | 同特征F，格子厚度沿方向逐渐增加，即全息光栅高度逐渐增加，特征G直接公开。 |
| 特征H：《隐含公开》 | 对比文件未明确提及全息光栅宽度是否相同，但例如[0005]记载了体积相位光栅的均匀记录。 | 根据对比文件公开的均匀干涉记录方法，本领域技术人员可以合理推导出所记录的全息光栅具有相同的宽度，因此特征H隐含公开。 |
| 特征I：《隐含公开》 | [0162]：“RMLCMをPVB膜上に噴射する。” 中文翻译：“将RMLCM喷射到PVB膜上。” | 喷射（喷涂）步骤隐含地覆盖基底表面的多个位置，本领域技术人员可以预期该特征，因此特征I隐含公开。 |
| 特征J：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开喷涂量根据位置而变化的技术内容。 |
| 特征K：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开将基底浸入容器中的步骤。 |
| 特征L：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开将基底与容器分离的步骤。 |
| 特征M：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开在分离过程中改变基底移动速度的特征。 |
| 特征N：《直接公开》 | [0005]：“平行なガラスプレートまたは基板同士の間に配置することによって製造される。” 中文翻译：“通过配置在平行的玻璃板或基板之间来制造。” | 对比文件明确公开了在基底（一个基板）与辅助基底（另一个基板）之间提供光敏树脂的步骤，因此特征N直接公开。 |
| 特征O：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开移动基底或辅助基底中的至少一者的步骤。 |
| 特征P：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开改变相对移动速度的特征。 |
| 特征Q：未公开 | 无相关记载。 | 对比文件没有公开在基底表面相对于基面倾斜的状态下提供光敏树脂。 |
| 特征R：《隐含公开》 | [0005]：“記録プロセス中、モノマーが重合するとともに、...相分離を受け” 中文翻译：“在记录过程中，单体聚合并且发生相分离。” | 聚合/固化过程相当于光敏树脂的干燥步骤，本领域技术人员可以合理推导出该特征，因此特征R隐含公开。 |
结论：对比文件直接公开了特征A、B、C、E、F、G、N；隐含公开了特征H、I、R。其余特征未被公开。
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