对比文件名称：2015-03-16_JP2015049278A_发明专利_JP2015049278A 光学デバイス及び画像表示装置
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728502B
模型名称：DeepSeek
## 特征比对表格
| 第一栏：技术特征描述及公开性判断 | 第二栏：对比文件原文引用 | 第三栏：公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括《隐含公开》 | 对比文件[0046]记载了透过型体积全息图的形成方法（记录光与参照光从不同方向照射感光材料）；[0071]记载了反射型体积全息图的形成方法（从感光材料上面和下面分别照射激光）。虽然对比文件主要保护光学器件和图像显示装置，但其说明书明确公开了全息光学元件的形成步骤，本领域技术人员可以合理推断出对比文件隐含公开了制造方法包括相应步骤。 | 对比文件[0046]和[0071]描述了全息光学元件的记录方法，这些方法构成制造过程的核心步骤，因此隐含公开了制造方法包括这些步骤。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)《隐含公开》 | 对比文件[0045]‑[0046]提及感光材料（相当于光敏树脂），且回折光学素子设置在导光体（基底）上（如[0074]“第１回折光学素子３１ａは、第２のパネル面２０２側の光入射面２０ａに対向する位置に設けられ”）。虽然未明确描述涂覆，但本领域技术人员已知全息记录前感光材料通常涂覆于基底表面，因此可合理推断出步骤(a)。 | 对比文件虽未直接写明“涂覆”，但由感光材料必须附着于基底才能记录全息光栅这一常识，本领域技术人员能合理推导出通过涂覆在基底表面形成光敏基底的步骤，故隐含公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)《直接公开》 | 对比文件[0071]：“厚いホログラム６２として示される反射型の体積ホログラムの場合には、感光材料の上面（図１２に長辺で示される部分のうち、ｘ軸方向の上方の部分）に記録光を照射し、感光材料の下面（図１２に長辺で示される部分のうち、ｘ軸方向の下方の部分）に参照光を照射することにより、干渉縞を形成する。”即对感光材料（光敏材料）的上面和下面分别照射激光记录干涉条纹（全息光栅）。 | 该段明确记载了从光敏基底的相对两个表面（上面和下面）用激光照射，形成全息光栅。这与目标专利步骤(b)完全相同，属于直接公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件涉及回折光学素子的倾斜结构，未提及光敏树脂涂层高度沿方向变化的技术方案，本领域技术人员无法从对比文件得出此特征。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未描述全息光栅与涂层高度的关系，未公开此项特征。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未涉及全息光栅或涂层高度沿方向变化的内容，未公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开全息光栅高度逐渐增加的特征。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件提及格子周期相同（如[0041]），但宽度（线宽）与周期不同，未讨论光栅宽度均匀性，故未公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开喷涂方法，未公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未涉及喷涂量变化，未公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开浸涂步骤，未公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开分离步骤，未公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开速度变化分离，未公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开辅助基底方法，未公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开移动步骤，未公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开相对速度变化，未公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开倾斜状态下提供光敏树脂，未公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥《未公开》 | 对比文件未记载相关内容。 | 对比文件未公开干燥步骤，未公开。 |
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